[发明专利]无孔径针尖增强拉曼散射探针及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200910052982.8 申请日: 2009-06-12
公开(公告)号: CN101923054A 公开(公告)日: 2010-12-22
发明(设计)人: 杨勇;黄政仁;野比上行;钟村荣 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: G01N21/65 分类号: G01N21/65
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200050*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 孔径 针尖 增强 散射 探针 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.无孔径针尖增强拉曼散射探针,其特征在于,在传统的拉曼散射探针表面具备3~20个微小针尖,微小针尖的直径为5~25nm,微小针尖的曲率半径为2~10nm。

2.按权利要求1所述的无孔径针尖增强拉曼散射探针,其特征在于,微小针尖的数量为5~15个,微小针尖的直径为10~15nm,微小针尖的曲率半径为5~8nm。

3.无孔径针尖增强拉曼散射探针的制备方法,包括下述步骤:

(1)选用针尖增强拉曼光谱探针或者在传统的扫描探针显微镜(SPM/AFM)探针上制备贵金属膜层;

(2)贵金属膜层上沉积碳层;

(3)对已沉积碳层的针尖进行氩离子束冲击;

(4)清洗并去掉多余碳层。

4.按权利要求3所述的无孔径针尖增强拉曼散射探针的制备方法,其特征在于所述的扫描探针显微镜(SPM/AFM)探针为硅或者氮化硅探针。

5.按权利要求3所述的无孔径针尖增强拉曼散射探针的制备方法,其特征在于所述的贵金属膜层为Au或Ag,厚度为100nm~200hm。

6.按权利要求5所述的无孔径针尖增强拉曼散射探针的制备方法,其特征在于所述的Au或Ag靶为高纯级。

7.按权利要求5或6所述的无孔径针尖增强拉曼散射探针的制备方法,其特征在于所述的制备贵金属膜层的方法可以采用磁控溅射、金属蒸镀。

8.按权利要求3所述的无孔径针尖增强拉曼散射探针的制备方法,其特征在于所述的针尖增强拉曼光谱探针或者在传统的扫描探针显微镜(SPM/AFM)探针的直径为50-60nm。

9.按权利要求3所述的无孔径针尖增强拉曼散射探针的制备方法,其特征在于所述的碳层厚度为80~150nm左右。

10.按权利要求3所述的无孔径针尖增强拉曼散射探针的制备方法,其特征在于采用氩离子冲击方法和预沉积碳层作为纳米结构形成的模板。

所述的氩离子束和探针针尖中轴线夹角控制在20-40度。

所述的氩离子束的强度为400-800eV;优选550-650eV。

所述的氩离子束的直径为200-500eV;优选300-400um。

所述的氩离子束的平均离子电流密度为200-300uA/cm2;优选200-240uA/cm2

所述的氩离子束冲击的时间为4-20分钟;

所述的氩离子束的真空度为5×10-5Pa,工作真空为2×10-2Pa。

11.按权利要求3所述的无孔径针尖增强拉曼散射探针的制备方法,其特征在于所述的清洗方法可以采用酒精超声清洗;

12.按权利要求5所述的无孔径针尖增强拉曼散射探针的制备方法,其特征在于所述的清洗超声时间为15分钟。

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