[发明专利]一种印制电路板中隐埋电阻的加工方法有效

专利信息
申请号: 200910054016.X 申请日: 2009-06-26
公开(公告)号: CN101605433A 公开(公告)日: 2009-12-16
发明(设计)人: 屈刚;赵国强;黄伟;吴金华;罗永红;陈培峰 申请(专利权)人: 上海美维电子有限公司;上海美维科技有限公司
主分类号: H05K3/30 分类号: H05K3/30;H05K1/16;H01C17/242
代理公司: 上海天翔知识产权代理有限公司 代理人: 吕 伴
地址: 201613上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 印制 电路板 中隐埋 电阻 加工 方法
【权利要求书】:

1.一种印刷电路板中隐埋电阻的加工方法,其特征在于,采用激光钻孔机在蚀刻补偿 的基础上进行激光切割来精确控制电阻的长宽尺寸;

具体是指在经过第一次蚀刻和第二次蚀刻后,依据待激光加工的垂直于b方向上的尺 寸a2和裸露的电阻层在两电极间隔的实际测量尺寸b2,使用UV或CO2激光来加工电阻;

所述待激光加工的垂直于b方向上的尺寸a2的计算公式(VI)为:

a2=b2×RSR---(VI)]]>

其中:R:为目标阻值;R′S:为修正后的电阻层方块电阻;

所述修正后的电阻层方块电阻R′S可以由以下公式(III)计算得到:

RS=R1×a1b1---(III)]]>

其中:R1:为完成电阻制作后,实际测量的电阻值;

a1:实际测量的电阻a方向的尺寸;

b1:实际测量的电阻b方向的尺寸;

上述第一次蚀刻是按a修正后的蚀刻加工尺寸a’尺寸进行普通蚀刻,将铜箔与电阻 层一起蚀刻掉,形成电阻线路图形,但电阻层(1)上仍然覆盖着铜箔(3)层;其中:修正后 的蚀刻加工尺寸a’由如下公式(V)计算而得:

a’=a+Δa………………(V)

其中:a:裸露的电阻层在垂直于b方向的理论尺寸;

Δa:a方向补偿量;

所述第二次蚀刻是按b’尺寸采用选择性蚀刻,将电阻铜箔(10)上的铜箔(3)层蚀刻 掉,露出电阻图形,其中:b修正后的蚀刻加工尺寸b’由如下公式(IV)计算而得:

b’=b+Δb………………(IV)

其中:b:裸露的电阻层在两电极间的理论间隔尺寸;

Δb:b方向补偿量。

2.如权利要求1所述的加工方法,其特征在于,Δa根据工艺的不同而选择在 5um-300um之间。

3.如权利要求1所述的加工方法,其特征在于,Δb根据工艺的不同而选择在 5um-300um。

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