[发明专利]电路图形尺寸调整方法及系统无效
申请号: | 200910054584.X | 申请日: | 2009-07-09 |
公开(公告)号: | CN101944500A | 公开(公告)日: | 2011-01-12 |
发明(设计)人: | 田明静 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L21/70 | 分类号: | H01L21/70;H01L21/66;H01L21/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 20120*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电路 图形 尺寸 调整 方法 系统 | ||
1.一种电路图形尺寸调整方法,包括:
根据电路图形的图形尺寸与尺寸偏差量的对应关系及图形尺寸,获得图形的尺寸偏差量;
根据获得的尺寸偏差量,调整图形尺寸。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括获得图形尺寸与尺寸偏差量的对应关系的步骤。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,获得所述对应关系的步骤具体包括:
分别制作不同图形尺寸的电路图形;
测量制作出来的各个电路图形的实际尺寸;
获得实际尺寸与其对应的图形尺寸的差额,作为尺寸偏差量;
根据各个图形尺寸与其自身对应的尺寸偏差量,模拟出图形尺寸与尺寸偏差量的对应关系。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,模拟所述对应关系,具体包括步骤:
选定包含未定参数的对应关系,所述未定参数是指用于表征所述对应关系的关系式中未确定的参数;
根据各个图形尺寸与其对应的尺寸偏差量以及该对应关系,计算出未定参数,以模拟出所述对应关系。
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括在电路图形数目有至少两个的情况下,选择出各个图形尺寸中最小尺寸的步骤;以及
根据所述对应关系及最小尺寸,获得所述尺寸偏差量,以调整各个电路图形的图形尺寸。
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括在电路图形数目有至少两个的情况下,分别根据各个电路图形的尺寸及所述对应关系,获得各个尺寸偏差量的步骤。
7.如权利要求1~6任一项权利要求所述的方法,其特征在于,所述对应关系为:
BL=a1+b1*L+c1*W+d1*L*W+e1*L*L+f1*W*W;
BW=a2+b2*L+c2*W+d2*L*W+e2*L*L+f2*W*W,其中BL代表长度偏差量,BW代表宽度偏差量,a1,b1,c1,d1,e1,f1,a2,b2,c2,d2,e2,f2为参数,L为电路图形的长度,W为电路图形的宽度。
8.如权利要求1~6任一项权利要求所述的方法,其特征在于,所述电路图形为散射条。
9.一种电路图形尺寸调整系统,其特征在于,包括:
偏差量获得单元,用于根据电路图形的图形尺寸与尺寸偏差量的对应关系及图形尺寸,获得图形的尺寸偏差量;
调整单元,用于根据偏差量获得单元获得的尺寸偏差量,调整图形尺寸。
10.如权利要求9所述的系统,其特征在于,还包括对应关系获得单元,用于获得图形尺寸与尺寸偏差量的对应关系。
11.如权利要求10所述的系统,其特征在于,所述对应关系获得单元,具体包括:
用于获得在制作不同图形尺寸的各个电路图形时将制作出的实际尺寸与其对应的图形尺寸的差额作为尺寸偏差量的子单元;
用于根据各个图形尺寸与其自身对应的尺寸偏差量,模拟出图形尺寸与尺寸偏差量的对应关系的子单元。
12.如权利要求11所述的系统,其特征在于,所述用于模拟出对应关系的子单元,具体包括:
用于选定包含未定参数的对应关系的子单元,所述未定参数是指用于表征所述对应关系的关系式中未确定的参数;
用于根据各个图形尺寸与其对应的尺寸偏差量以及该对应关系,计算出未定参数,以模拟出所述对应关系的子单元。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造