[发明专利]一种用于热电材料的涂层及其含有该涂层的器件有效
申请号: | 200910055439.3 | 申请日: | 2009-07-27 |
公开(公告)号: | CN101969094A | 公开(公告)日: | 2011-02-09 |
发明(设计)人: | 陈立东;黄向阳;李小亚;夏绪贵;何琳 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所;康宁股份有限公司 |
主分类号: | H01L35/02 | 分类号: | H01L35/02;H01L35/28;H01L35/34 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 彭茜茜;白益华 |
地址: | 200050*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 热电 材料 涂层 及其 含有 器件 | ||
1.一种涂层,其用于热电材料,其特征在于,包括:
含有热电材料的热电层;
一层或多层金属涂层,其中所述金属涂层形成与所述热电层接触的表面以及另一相向表面;
一层或多层金属氧化物涂层,所述金属氧化物涂层含有金属氧化物,其中所述金属氧化物涂层形成与所述相向表面接触的表面。
2.如权利要求1所述的涂层,其特征在于,所述热电材料选自填充和/或掺杂方钴矿。
3.如权利要求2所述的涂层,其特征在于,所述填充和/或掺杂方钴矿选自CoSb3基方钴矿。
4.如权利要求1所述的涂层,其特征在于,所述金属涂层含有Ta、Nb、Ti、Mo、V、Al、Zr、Ni、NiAl、TiAl、NiCr或其组合。
5.如权利要求1所述的涂层,其特征在于,所述金属氧化物涂层含有TiO2、Ta2O5、Nb2O5、Al2O3、ZrO2、NiO、SiO2或其组合。
6.如权利要求1所述的涂层,其特征在于,其厚度为10-500μm(微米)。
7.如权利要求6所述的涂层,其特征在于,其厚度为50-200μm(微米)。
8.如权利要求1所述的涂层,其特征在于,所述金属涂层的厚度为0.01-20um(微米)。
9.如权利要求8所述的涂层,其特征在于,所述金属涂层的厚度为0.2-2um(微米)。
10.如权利要求1所述的涂层,其特征在于,所述热电层具有厚度为LT,所述金属涂层和金属氧化物涂层各自具有厚度为LM&MOx,其中LM&MOx≤LT,且(LT-LM&MOx)/LT≤0.4。
11.一种含有如权利要求1所述的涂层的器件。
12.一种如权利要求1所述的涂层的制备方法,其特征在于:
提供含有热电材料的热电层;
在所述热电层上形成一层或多层金属涂层,其中所述金属涂层形成与所述热电层接触的表面以及另一相向表面;
在所述金属涂层上形成一层或多层金属氧化物涂层,所述金属氧化物涂层含有金属氧化物,其中所述金属氧化物形成与所述金属涂层的相向表面接触的表面。
13.一种如权利要求12所述的涂层的制备方法,其特征在于:
所述全部或部分金属涂层由以下方法形成:热蒸发法、电弧喷涂法、等离子喷涂法、火焰喷镀法、真空溅射法、电化学蒸汽沉积法、电镀法、或沉积法(electroless deposition)。
14.一种如权利要求12所述的涂层的制备方法,其特征在于:
所述全部或部分金属氧化物涂层由以下方法形成:
热蒸发沉积法、真空溅射法、等离子喷涂法、溶胶法(sol-gel)、化学溶液沉积法(chemical solution deposition)、或化学蒸汽沉积法(chemicalvapor deposition)。
15.一种如权利要求12所述的涂层的制备方法,其特征在于:
通过对所述金属涂层的至少部分氧化,使得所述金属氧化物涂层与所述金属涂层的相向表面接触。
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