[发明专利]提高湿法刻蚀性能的方法

权利要求书

1.一种提高湿法刻蚀性能的方法，其特征在于包括以下步骤：

对衬底进行HMDS疏水处理，增强光刻胶通过抗反射涂层与衬底的粘附 力，从而抑制刻蚀液的侧向刻蚀；

在所述衬底上涂布所述抗反射涂层，所述抗反射涂层用于改进光刻法的 图案形成过程中形成的光刻胶图案的均匀性以及增强光刻胶底部和衬底的粘 附力；

在所述抗反射涂层上涂布一层光刻胶；

进行曝光、显影和刻蚀处理，去除部分所述光刻胶和抗反射涂层，使得 待刻蚀衬底暴露在外；

采用有机溶液去除剩余的光刻胶；

以剩余的部分抗反射涂层为掩蔽，对衬底进行湿法刻蚀处理。

2.根据权利要求1所述的提高湿法刻蚀性能的方法，其特征在于所述 HMDS疏水处理包括向衬底表面喷洒HMDS和烘烤。

3.根据权利要求2所述的提高湿法刻蚀性能的方法，其特征在于所述 HMDS疏水处理中的HMDS喷洒时间范围为0.1秒至100秒。

4.根据权利要求2所述的提高湿法刻蚀性能的方法，其特征在于所述 HMDS疏水处理中的烘烤温度范围为30度至150度。

5.根据权利要求2所述的提高湿法刻蚀性能的方法，其特征在于所述 HMDS疏水处理中的烘烤时间范围为1秒至1000秒。