[发明专利]化学气相沉积设备的安装方法及化学气相沉积设备

权利要求书

1.一种化学气相沉积设备的安装方法，其特征在于，包括步骤：

将晶舟安装在基座上，且在所述晶舟一侧设置有投影板；

在所述投影板上设置参照物；

第一光束照射所述晶舟，使所述晶舟投影到所述投影板上形成晶舟投影；

沿所述基座的中心轴旋转所述基座，且上述晶舟和所述基座一起旋转，测量在旋转过程中所述晶舟投影与所述参照物之间的距离，当旋转过程中所述距离发生变化时，则调整所述晶舟在所述基座上的位置。

2.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备的安装方法，其特征在于，所述晶舟安装在基座上方，所述投影板设置在所述晶舟上方；第一光束从所述基座下方，向上方照射所述晶舟；

所述参照物的设置方法为，利用第二光束向上方照射，且所述第二光束直接照射在投影板上，形成光束影像，所述光束影像为所述参照物。

3.根据权利要求2所述的化学气相沉积设备的安装方法，其特征在于，将晶舟安装在基座上方步骤之前还包括：将基座安装在金属支架上方，在所述基座上方设置投影板；

第一光束从所述基座下方，向上方照射所述基座，使所述基座投影到所述投影板上形成基座投影，第二光束向上方照射，且所述第二光束直接照射在投影板上，形成光束影像；

沿所述金属支架的中心轴旋转所述金属支架，且所述基座和所述金属支架一起旋转，测量在旋转过程中所述基座投影与光束影像之间的距离，当旋转过程中所述距离发生变化时，则调整所述基座在所述金属支架上的位置。

4.根据权利要求3所述的化学气相沉积设备的安装方法，其特征在于，所述第一光束沿所述基座的中心轴方向照射。

5.根据权利要求4所述的化学气相沉积设备的安装方法，其特征在于，所述第二光束沿所述基座的中心轴方向照射。

6.根据权利要求5所述的化学气相沉积设备的安装方法，其特征在于，所述光束影像为圆形。

7.根据权利要求6所述的化学气相沉积设备的安装方法，其特征在于，所述晶舟投影为圆形。

8.根据权利要求7所述的化学气相沉积设备的安装方法，其特征在于，在旋转前所述光束影像和所述晶舟投影相切。

9.一种化学气相沉积设备，包括：晶舟，用于盛放晶片，安装在基座上；基座，用于安装所述晶舟并带动其沿所述基座的中心轴旋转；其特征在于，还包括：

投影板，位于所述晶舟一侧；

第一发光设备，用于照射所述晶舟，晶舟投影到所述投影板上形成晶舟投影；

参考物，设置于所述投影板上。

10.根据权利要求9所述的化学气相沉积设备，其特征在于，

所述投影板位于所述晶舟上方；

第一发光设备位于所述基座下方；

还包括第二发光设备，用于从所述基座下方，向上方照射，且所述第二发光设备直接照射在投影板上，形成光束影像，所述光束影像为所述参照物。

11.根据权利要求10所述的化学气相沉积设备，其特征在于，还包括：金属支架和热缩套管，所述基座安装在金属支架上方，将所述金属支架安装在热缩套管上方；且

第一发光设备位于所述热缩套管下方。

12.根据权利要求11所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述第一发光设备沿所述基座的中心轴方向照射。

13.根据权利要求12所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述第二发光设备沿所述基座的中心轴方向照射。

14.根据权利要求13所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述光束影像为圆形。

15.根据权利要求14所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述晶舟投影为圆形。

16.根据权利要求15所述的化学气相沉积设备，其特征在于，在旋转前所述光束影像和所述晶舟投影相切。