[发明专利]液晶显示装置及该液晶显示装置的制造方法

权利要求书

1.一种液晶显示装置，包括一基板，该基板的表面形成有多个阵列排布的像素单元，每一该像素单元包括薄膜晶体管区和反射区，其特征在于：该反射区包括至少一个表面呈曲面的凸起，该凸起由无机绝缘材料形成。

2.如权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于：该凸起呈半球形或椭球形。

3.如权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于：该无机绝缘材料是氮化硅或氧化硅。

4.如权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于：该凸起的最大宽度处的宽度取值范围为2μm～5μm，该凸起的高度为300nm。

5.如权利要求1到4中任意一项的液晶显示装置的制造方法，包括如下步骤：

提供该基板，在该基板沉积无机绝缘层；

在该无机绝缘层需要形成凸起的位置覆盖光阻；

向覆盖有该无机绝缘层和该光阻的基板提供刻蚀气体，去除该光阻，以使该无机绝缘层覆盖有该光阻的部分形成表面呈曲面的凸起。

6.如权利要求5所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：在向覆盖有该无机绝缘层和该光阻的基板提供刻蚀气体的步骤中，还包括调整该刻蚀气体的气压以调整该凸起表面的弯曲度。

7.如权利要求5所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：该液晶显示装置是全反射式液晶显示装置或者半穿半反式液晶显示装置。

8.如权利要求5所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：该光阻的厚度为1.3μm。

9.如权利要求5所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：在该无机绝缘层需要形成凸起的位置覆盖光阻的步骤中，还包括调整该光阻的厚度以调整该凸起形成的高度。

10.如权利要求5所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：在该无机绝缘层需要形成凸起的位置覆盖光阻的步骤包括：在该无机绝缘层上形成光阻层，对该光阻层进行刻蚀，仅保留需要形成凸起的位置的该光阻。

11.如权利要求5所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：该液晶显示装置的薄膜晶体管区包括薄膜晶体管，该薄膜晶体管具有依次设置于该基板表面的栅极、栅极绝缘层、半导体岛和源/漏极，该栅极绝缘层由无机绝缘材料形成。

12.如权利要求11所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：该源/漏极和半导体岛上还形成有钝化层，该钝化层也由无机绝缘材料形成。

13.如权利要求12所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：该无机绝缘层为该栅极绝缘层或该钝化层。

14.如权利要求11所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：还包括：在该无机绝缘层覆盖该光阻的部分形成表面呈曲面的凸起后，在该凸起表面沉积反射层。

15.如权利要求14所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：该反射层的材质是铝、银或者铝银合金。

16.如权利要求14所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：该反射区的反射层与该薄膜晶体管的源/漏极在同一步骤中形成。

17.如权利要求5所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：该刻蚀气体为均匀的刻蚀气体。

18.如权利要求5所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：不需要形成凸起的位置的无机绝缘层没有被完全刻蚀掉。

19.如权利要求5所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：不需要形成凸起的位置的无机绝缘层被完全刻蚀掉。