[发明专利]彩膜基板及其制造方法和液晶显示面板有效
申请号: | 200910077334.8 | 申请日: | 2009-02-18 |
公开(公告)号: | CN101806974A | 公开(公告)日: | 2010-08-18 |
发明(设计)人: | 姚继开 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1339;G03F7/00 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 彩膜基板 及其 制造 方法 液晶显示 面板 | ||
1.一种彩膜基板,在所述彩膜基板上间隔设有主柱形隔垫物和辅柱形隔垫 物,所述主柱形隔垫物的高度大于所述辅柱形隔垫物,其特征在于,所述主柱 形隔垫物和所述辅柱形隔垫物的底部呈弧形相连。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,在所述彩膜基板上设有 黑矩阵,所述主柱形隔垫物和辅柱形隔垫物均设在所述黑矩阵上。
3.根据权利要求2所述的彩膜基板,其特征在于,所述主柱形隔垫物和辅 柱形隔垫物与所述黑矩阵为一体结构。
4.根据权利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,所述黑矩阵、主柱形隔 垫物和辅柱形隔垫物的材料为聚丙烯酸树脂或聚酯树脂。
5.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述主柱形隔垫物和辅 柱形隔垫物底部的横截面尺寸大于顶部的横截面尺寸,且所述横截面为圆形或 多边形。
6.根据权利要求5所述的彩膜基板,其特征在于,所述主柱形隔垫物的横 截面直径为10微米~20微米,高度为2微米~4微米。
7.一种彩膜基板制造方法,其特征在于,包括:
提供一玻璃基板;
在玻璃基板上形成黑矩阵;
在形成有黑矩阵的玻璃基板上形成底部呈弧形相连的主柱形隔垫物和辅柱 形隔垫物,其中,所述主柱形隔垫物的高度大于所述辅柱形隔垫物。
8.根据权利要求7所述的彩膜基板制造方法,其特征在于,所述在形成有 黑矩阵的玻璃基板上形成底部呈弧形相连的主柱形隔垫物和辅柱形隔垫物具体 为:
在黑矩阵上直接形成底部呈弧形相连的主柱形隔垫物和辅柱形隔垫物;或
在黑矩阵之间形成彩色像素单元,在彩色像素单元上形成公共电极,在公 共电极上形成底部呈弧形相连的主柱形隔垫物和辅柱形隔垫物。
9.一种彩膜基板制造方法,其特征在于,包括:
提供一玻璃基板;
在玻璃基板上形成黑矩阵的同时形成底部呈弧形相连的主柱形隔垫物和辅 柱形隔垫物,所述主柱形隔垫物和辅柱形隔垫物与所述黑矩阵为一体结构,且 所述主柱形隔垫物的高度大于所述辅柱形隔垫物。
10.根据权利要求9所述的彩膜基板制造方法,其特征在于,所述在玻璃 基板上形成黑矩阵的同时形成底部呈弧形相连的主柱形隔垫物和辅柱形隔垫物 具体包括:
通过化学汽相沉积法在玻璃基板上沉积树脂材料薄膜和光刻胶层;
使用灰度不同的掩模板对光刻胶层进行曝光,获得完全曝光区域、部分曝 光区域和未曝光区域;
通过刻蚀工艺对所述完全曝光区域进行刻蚀,并在所述完全曝光区域处形 成黑矩阵图形;
通过灰化工艺使所述部分曝光区域处的光刻胶层完全去除,使所述未曝光 区域处的光刻胶层变薄;
通过刻蚀工艺对所述部分曝光区域露出的树脂材料薄膜进行刻蚀,形成辅 柱形隔垫物图形;
剥离所述未曝光区域处剩余的光刻胶,在所述未曝光区域处形成主柱形隔 垫物图形。
11.一种液晶显示面板,包括彩膜基板和与所述彩膜基板对盒设置的阵列 基板,在所述彩膜基板和阵列基板之间滴注有液晶,其中在所述彩膜基板上间 隔设有主柱形隔垫物和辅柱形隔垫物,所述主柱形隔垫物的高度大于所述辅柱 形隔垫物,其特征在于,所述主柱形隔垫物和所述辅柱形隔垫物的底部呈弧形 相连。
12.根据权利要求11所述的液晶显示面板,其特征在于,在所述彩膜基板 上设有黑矩阵,所述主柱形隔垫物和辅柱形隔垫物均设在所述黑矩阵上。
13.根据权利要求12所述的液晶显示面板,其特征在于,所述主柱形隔垫 物和辅柱形隔垫物与所述黑矩阵为一体结构。
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