[发明专利]阵列基板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200910081011.6 申请日: 2009-03-27
公开(公告)号: CN101846858A 公开(公告)日: 2010-09-29
发明(设计)人: 林允植 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;H01L21/84;H01L23/52;H01L23/48;H01L21/66
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 刘芳
地址: 100176 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 阵列 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,包括显示画面的有效区域和用于给有效区域提供像素信号的焊盘区域;所述有效区域包括:用第一金属制成的第一信号线、用第二金属制成的第二信号线、与所述第一信号线和所述第二信号线电气连接的开关元件和由所述开关元件驱动的像素电极;其特征在于:所述焊盘区域包括:

测试信号线;

测试用连接线,与有效区域的信号线电气连接;

所述测试用连接线包括:一端与测试信号线电气连接的第一部分和一端与所述有效区域的第一信号线或第二信号线电气连接的第二部分;

所述第一部分和第二部分的另一端相隔一段距离相对设置;

所述测试用连接线还包括使所述第一部分的另一端和所述第二部分的另一端电气连接的连接部。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于:所述测试用连接线的第一部分和第二部分由与所述有效区域的第一信号线相同的物质构成。

3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于:所述测试用连接线的第一部分和第二部分由与所述有效区域的第二信号线相同的物质构成。

4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于:所述测试用连接线的连接部由与有效区域的像素电极同样的物质构成。

5.一种阵列基板的制造方法,所述阵列基板包括显示画面用的有效区域和给所述有效区域提供信号用的焊盘区域,其特征在于,包括:

在玻璃基板上沉积不透明的导电层;

利用构图工艺形成不透明导电层的图案,所述不透明导电层的图案包括给所述有效区域提供信号的第一信号线和所述焊盘区域里的测试信号线和测试用连接线,所述测试用连接线包括一端与测试信号线电气连接的第一部分和一端与有效区域的第一信号线电气连接的第二部分,所述第一部分的另一端与第二部分的另一端相隔一段距离相对设置;

在完成所述不透明导电层的图案的玻璃基板上沉积绝缘层;

利用构图工艺形成使所述焊盘区域的测试用连接线的第一部分的另一端和第二部分的另一端裸露的过孔;

在完成所述绝缘层上的过孔的玻璃基板上沉积透明导电层;

利用构图工艺刻蚀透明导电层,形成所述有效区域里的像素电极和在所述焊盘区域的过孔上使所述测试用连接线的第一部分的另一端和第二部分的另一端连接的连接部的图案。

6.根据权利要求5所述的阵列基板的制造方法,其特征在于:所述有效区域的第一信号线为控制是否给像素电极提供像素信号的栅极线。

7.根据权利要求5所述的阵列基板的制造方法,其特征在于:所述有效区域的第一信号线为给像素电极提供像素信号的数据线。

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