[发明专利]射频识别装置及其制造方法无效
申请号: | 200910082539.5 | 申请日: | 2009-04-24 |
公开(公告)号: | CN101527008A | 公开(公告)日: | 2009-09-09 |
发明(设计)人: | 张晓冬 | 申请(专利权)人: | 北京德鑫泉科技发展有限公司 |
主分类号: | G06K19/077 | 分类号: | G06K19/077;H01Q1/14;H01Q1/22 |
代理公司: | 北京双收知识产权代理有限公司 | 代理人: | 吴 杰 |
地址: | 100176北京市经济技术开*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 射频 识别 装置 及其 制造 方法 | ||
1、一种射频识别装置,包括智能标签、天线垫平层(5)、上保护层(7)和下承载层(8),所述智能标签包括天线(1)、芯片(2)和天线承载基片(3),其中天线(1)附着在天线承载基片(3)上,其特征在于:所述天线垫平层(5)内设有与天线承载基片(3)大小、位置相匹配的孔a,所述天线承载基片(3)置于孔a中,所述天线垫平层(5)的上端面上设有上保护层(7),天线垫平层(5)的下端面上设有下承载层(8)。
2、根据权利要求1所述的射频识别装置,其特征在于:所述天线垫平层(5)与上保护层(7)之间还设有芯片垫平层(6),所述芯片垫平层(6)内还设有与芯片(2)大小、位置相匹配的孔b,所述芯片(2)置于孔b中。
3、根据权利要求2所述的射频识别装置,其特征在于:所述天线承载基片(3)上还设有孔c,所述下承载层(8)与芯片垫平层(6)透过孔c相连接。
4、根据权利要求3所述的射频识别装置,其特征在于:所述上保护层(7)和下承载层(8)的外端面还设有外保护层(4)。
5、根据权利要求4所述的射频识别装置,其特征在于:所述外保护层(4)内表面上还设有印刷层(9),外保护层(4)为透明材料。
6、所述权利要求1的射频识别装置的制造方法,其特征在于包括如下步骤:
i分别准备整张上保护层(7)、下承载层(8)、整张天线垫平层(5);
ii在整张天线垫平层(5)上按照设定位置打若干孔a,将整张天线垫平层(5)置于整张下承载层(8)之上;
iii准备若干智能标签,将智能标签上的天线承载基片(3)置于孔a中;
iv将整张上保护层(7)置于整张天线垫平层(5)之上;
v将上述步骤放置好的材料对齐装订,对整套材料施行一次层压工艺;
vi对层压完成的整套射频识别装置进行切分,形成单张射频识别装置。
7、根据权利要求6所述的射频识别装置的制造方法,其特征在于:所述步骤iv还包括在整张上保护层(7)和整张天线垫平层(5)之间加入整张芯片垫平层(6)。
8、根据权利要求7所述的射频识别装置的制造方法,其特征在于:所述步骤iv还包括在整张芯片垫平层(6)上标记出芯片(2)的位置,然后在标记的位置处打孔b,将整张芯片垫平层(6)置于整张天线垫平层(5)之上,使芯片(2)置于孔b内。
9、根据权利要求8所述的射频识别装置的制造方法,其特征在于:所述步骤v还包括准备两个整张外保护层(4),将两个整张外保护层(4)分别放置在上保护层(7)和下承载层(8)的外侧,然后对整套材料施行一次层压工艺。
10、根据权利要求8所述的射频识别装置的制造方法,其特征在于:所述步骤v还包括准备两个整张外保护层(4),在完成一次层压工艺后将两个整张外保护层(4)分别放置在上保护层(7)和下承载层(8)的外侧,然后对整套材料施行二次层压工艺。
11、根据权利要求9或10所述的射频识别装置的制造方法,其特征在于:所述步骤iii还包括在天线承载基片(3)上打孔c。
12、根据权利要求11所述的射频识别装置的制造方法,其特征在于:所述步骤v还包括准备两个整张印刷层(9),将两个整张印刷层(9)分别置于整张上保护层(7)、整张下承载层(8)与两个整张外保护层(4)之间。
13、根据权利要求12所述的射频识别装置的制造方法,其特征在于:所述层压工艺采用在材料两端同时加热加压的方式。
14、根据权利要求13所述的射频识别装置的制造方法,其特征在于:所述孔a、b、c的开通工艺采用模具冲切或人工挖孔。
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