[发明专利]一种精密抛光布及其制备方法有效
申请号: | 200910092219.8 | 申请日: | 2009-09-07 |
公开(公告)号: | CN101648368A | 公开(公告)日: | 2010-02-17 |
发明(设计)人: | 张增明;葛丙恒 | 申请(专利权)人: | 北京国瑞升科技有限公司 |
主分类号: | B24D11/00 | 分类号: | B24D11/00;B24D11/02;B24D18/00;C09K3/14;B24D3/28 |
代理公司: | 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 吴小灿 |
地址: | 100085北京市海淀区上*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 精密 抛光 及其 制备 方法 | ||
1.一种精密抛光布,包括布基,其特征在于,所述布基采用编织布料,所述布基表面具有 由经向纱线和纬向纱线编织形成的凹坑,在所述布基表面上具有通过涂布带有研磨微粉 的研磨浆料所形成的研磨涂层,所述研磨涂层具有容屑坑,所述容屑坑与所述布基表面 的凹坑相对应。
2.根据权利要求1所述的精密抛光布,其特征在于,所述涂布采用刮涂或辊涂或喷涂;所 述研磨浆料是包括所述研磨微粉与胶粘剂、溶剂和固化剂的混合物。
3.根据权利要求1所述的精密抛光布,其特征在于,所述研磨微粉为金刚石或碳化硅或氧 化铝或氧化铈或二氧化硅,粒径为0.1-30微米。
4.根据权利要求1所述的精密抛光布,其特征在于,所述布基的纤维直径为3~20微米。
5.根据权利要求1所述的精密抛光布,其特征在于,所述布基的纱线密度为23~49根/厘 米2。
6.一种如权利要求1至5之一所述的精密抛光布的制备方法,其特征在于包括以下步骤: 将研磨微粉与胶粘剂、溶剂混合均匀,再加入固化剂,制得研磨浆料;将研磨浆料涂布 于布基表面;再经固化处理而形成研磨涂层,所述研磨涂层具有容屑坑,所述容屑坑与 所述布基表面的凹坑相对应。
7.根据权利要求6所述的精密抛光布的制备方法,其特征在于所述研磨微粉的中值粒径为 0.1~20微米。
8.根据权利要求6所述的精密抛光布的制备方法,其特征在于所述胶粘剂指的是:酚醛树 脂、聚氨酯树脂、醇酸树脂、环氧树脂、丙烯酸酯树脂、聚乙烯醇、羧甲基纤维素、尿 素-甲醛树脂、聚醚树脂、聚酯树脂中的一种或几种的混合物;所述的溶剂指的是:乙 酸乙酯、乙醚、石油醚、甲苯、甲醇、乙醇、异丙醇、丁酮、环己酮、氯仿、四氢呋喃 中的一种或几种的混合物或者是水。
9.根据权利要求6所述的精密抛光布的制备方法,其特征在于所述固化剂指的是聚异氰酸 酯、聚酰胺、酸酐、多元胺中的一种或几种的混合物。
10.根据权利要求6所述的精密抛光布的制备方法,其特征在于所述的固化处理是指将抛 光布经涂布机的干燥道干燥后,在40~150℃下放置5~60小时。
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