[发明专利]一种精密抛光布及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种精密抛光布及其该抛光布的制备方法，该抛光布用于薄膜晶体管液晶 显示器TFT-LCD制程中偏光片贴附前的基板表面的清洁处理。

背景技术

近年来液晶显示器(LCD)得到广泛应用，电视、手机、笔记本电脑、相机等等都采用 液晶显示器，液晶显示器已经深入到我们生活的各个领域。液晶显示器目前最高端的要属 薄膜晶体管液晶显示器，即TFT-LCD，该类显示器具有轻便、功耗低、高彩色保真度，高亮 度，高对比度，高响应速度、易于集成化和更新换代等优势，是大规模半导体集成电路技 术和光源技术的完美结合。在TFT-LCD的制造过程中，其中一个工序称为Cell制程，在Cell 制程中，液晶灌注、封口、切割、磨边后，基板表面会留下顽固的玻璃屑、封口胶、油渍 等杂质，这些杂质在后续进行偏光片贴附前必须清洗干净。早期采用无尘布擦拭、刀片刮 等手工方式去除，效率非常低，并且容易划伤玻璃基板，已经不能满足高世代产线的生产 需要。近年来，日本、台湾等TFT-LCD生产厂家纷纷采用研磨的方法清洁基板上的这些杂 质，生产效率很高。目前使用的主要有两种研磨材料：一种以聚酯薄膜为基材的研磨带进 行研磨清洁，研磨效率高，但是由于聚酯薄膜较硬，研磨下来的玻璃屑、胶块等夹杂在研 磨带和玻璃基板之间，容易造成玻璃基板的划伤，影响产品的成品率；另一种是以聚氨酯 垫为底材做成研磨带，研磨成品率较好，但是研磨效率略低。

发明内容

本发明针对现有技术中存在的缺陷或不足，提供一种精密抛光布及其该抛光布的制备 方法，将该抛光布用于TFT-LCD的Cell制程中偏光片贴附前基板的清洁处理，可以有效地 去除基板表面的玻璃屑、残胶、油渍等杂质，同时又避免对玻璃基板造成划伤。

本发明的发明目的是通过以下技术方案实现的：

一种精密抛光布，包括布基，其特征在于，所述布基采用编织布料，布基表面具有由 经向纱线和纬向纱线编织形成的凹坑，在所述布基表面上具有通过涂布带有研磨微粉的研 磨浆料所形成的研磨涂层，所述研磨涂层具有容屑坑，所述容屑坑与所述布基表面的凹坑 相对应。

所述涂布采用刮涂或辊涂或喷涂；所述研磨浆料是包括所述研磨微粉与胶粘剂、溶剂 和固化剂的混合物。

所述研磨微粉为金刚石或碳化硅或氧化铝或氧化铈或二氧化硅，粒径为0.1-30微米。

所述布基的纤维直径为3～20微米。

所述布基的纱线密度为23～49根/厘米²。

上述精密抛光布的制备方法，其特征是包括以下步骤：将研磨微粉与胶粘剂、溶剂混 合均匀，再加入固化剂，制得研磨浆料；将研磨浆料涂布于布基表面；再经固化处理而形 成研磨涂层。

所述研磨微粉的中值粒径为0.1～20微米。

所述胶粘剂指的是：酚醛树脂、聚氨酯树脂、醇酸树脂、环氧树脂、丙烯酸酯树脂、 聚乙烯醇、羧甲基纤维素、尿素-甲醛树脂、聚醚树脂、聚酯树脂中的一种或几种的混合物； 所述的溶剂是：乙酸乙酯、乙醚、石油醚、甲苯、甲醇、乙醇、异丙醇、丁酮、环己酮、 氯仿、四氢呋喃中的一种或几种的混合物或者是水。

所述固化剂指的是聚异氰酸酯、聚酰胺、酸酐、多元胺中的一种或几种的混合物。

所述的固化处理是指将抛光布经涂布机的干燥道干燥后，在40～150℃下放置5～60小 时。

本发明的技术效果如下：本发明的精密抛光布以柔软富有弹性的布基为底材，布基表 面本身具有由经向纱线和纬向纱线编织形成的凹坑，形成了凹凸不平的表面，因此在布基 表面上涂布研磨涂层时，使研磨涂层在与布基表面的凹坑相对应的地方形成容屑坑，具有 收集研磨时产生的磨屑的功能。研磨时，柔软富有弹性的布基对玻璃基板的贴附性良好， 通过精密研磨微粉的研磨，能有效地去除基板表面的玻璃屑、残胶、油渍等杂质；同时研 磨产生的磨屑能够储存在容屑坑处，从而避免对玻璃基板造成划伤，既满足了成品率的要 求，又能满足生产效率的要求。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

附图标记列示如下：1-研磨涂层，2-容屑坑，3-布基纬向纱线，4-布基径向纱线， 5-布基凹坑，6-研磨微粉。

具体实施方式

以下结合附图对本发明作进一步说明：