[发明专利]一种含有掺杂元素的太阳能级硅晶体的制备方法无效

专利信息
申请号: 200910097894.X 申请日: 2009-04-22
公开(公告)号: CN101560693A 公开(公告)日: 2009-10-21
发明(设计)人: 李乔;马远 申请(专利权)人: 浙江碧晶科技有限公司
主分类号: C30B29/06 分类号: C30B29/06;C30B27/00
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 代理人: 胡红娟
地址: 312300浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 含有 掺杂 元素 太阳 能级 晶体 制备 方法
【权利要求书】:

1、一种含有掺杂元素的太阳能级硅晶体的制备方法,将含掺杂元素的硅熔液置入坩埚反应器内,采用定向凝固法或提拉法制备硅晶体,所述的掺杂元素为硼、磷、镓中的一种或多种,其特征在于:在硅晶体的制备过程中,将保护气体通入晶体生长炉内并流经硅熔液表面,所述的保护气体为:

a)含氢原子的气体;

或b)含氢原子的气体与惰性气体的混合物。

2、如权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述的含氢原子的气体为H2、SiH4、CH4中的至少一种。

3、如权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述的惰性气体为氦气、氩气、氮气中的至少一种。

4、如权利要求1、2或3所述的制备方法,其特征在于:采用定向凝固法制备硅晶体,所述的保护气体在硅熔液表面所形成的压力为100Pa~1atm。

5、如权利要求1、2或3所述的制备方法,其特征在于:采用提拉法制备硅晶体,所述的保护气体在硅熔液表面所形成的压力为100Pa~5000Pa。

6、如权利要求1、2或3所述的制备方法,其特征在于:持续保护气体的通入直至硅晶体生长完成并冷却。

7、如权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述掺镓、掺硼和/或掺磷硅晶体为单晶硅晶棒、多晶硅晶棒或多晶硅铸锭。

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