[发明专利]含有邻羟基的具有共轭结构希夫碱型的可见光光敏剂的合成及应用

说明书

技术领域

本发明属于可见光敏剂领域，特别是含有邻羟基的具有共轭结构希夫碱型的可见光光敏剂的合成及应用。

背景技术

高效的可见光光敏引发体系是目前光聚合研究中的重要领域。随着激光成像和光固化技术的进步，光敏高分子材料如光致抗蚀剂、光固化油墨、涂料和光敏印刷版材等得到了迅速的发展。这些光功能性材料的一个关键技术是如何使其光谱响应范围向长波长延伸，并获得高灵敏度。为此，开发新型高感低能的、对长波长可见激光敏感的光聚合引发体系已成为当今研究的热点。使引发剂的光谱吸收移向长波长区域的一种方法就是根据需要的感光波长，寻找合适的可见光光敏剂。Yong He，Wenhui Zhou，Feipeng Wu，Miaozhen Li，Erjian Wang发现了吸收可见光的方酸染料可以敏化紫外光引发剂碘鎓盐实现可见光光聚合。题目是：《方酸/碘鎓盐组合的光反应与光聚合的研究》(Photoreaction and photopolymerization studies onsquaraine dyes/iodonium salts combination)，《Journal of Photochemistry and Photobiology A：Chemistry》(光化学与光生物杂志A：化学)，2004，162(2-3)，463-471。在可见光的光照下，方酸作为可见光光敏剂敏化紫外光引发剂碘鎓盐，通过分子间的光致电子转移产生自由基引发烯类单体聚合，然而，这类染料的溶解性不是很好，并且其引发效率有待提高。传统的光引发剂包括二苯甲酮、三氯代甲基均三嗪，碘鎓盐，安息香醚及其衍生物，双咪唑等，这些光引发剂的引发效率很高，但它们只能吸收200-300nm的紫外光，可见光区几乎没有吸收。

发明内容

本发明的目的为：

(1)本发明通过设计含有邻羟基的具有共轭结构希夫碱型的可见光光敏剂，使其最大吸收在可见光区，并且具有较大的摩尔消光系数和较高的引发效率。

(2)本发明通过简便的方法制备含有邻羟基的具有共轭结构希夫碱型的可见光光敏剂。

(3)本发明通过设计合成含有邻羟基的具有共轭结构希夫碱型的可见光光敏剂，使其紫外可见吸收的峰值红移至390nm以上，可作为可见光光敏剂，紫外光引发剂与其他助剂组成光敏系统用于溶液中烯类单体的可见光聚合或作为光固化材料。

本发明所涉及的含有邻羟基的具有共轭结构希夫碱型的可见光光敏剂，其化合物的化学结构通式如下：

其中分子结构式(I)中化合物代表A：R₁，R₃：H，R₂：OCH₃，OCH₂CH₃，OCH₂CH₂CH₃，O CH₂CH₂CH₂CH₃，N(CH₃)₂，N(CH₂CH₃)₂，N(CH₂CH₂CH₃)₂，N(CH₂CH₂CH₂CH₃)₂，N(Ph)₂；B：(R₁：H，OCH₃，R₂，R₃：OCH₃)。

上述含有邻羟基的具有共轭结构希夫碱型的可见光光敏剂的合成方法包括以下步骤：

第一步：4-硝基二苯乙烯衍生物的合成

反应方程式为：