[发明专利]低辐射膜玻璃的浮法在线生产方法

权利要求书

1.一种低辐射膜玻璃的浮法在线生产方法，包含以下步骤：

S1在浮法玻璃生产线上，熔融的玻璃液浮在锡槽内运动并逐渐冷却形成玻璃带，玻璃带离开锡槽进入气氛控制室，在气氛控制室内采用常压化学气相沉积法，将由硅烷、含氧源、乙烯组成的前质体气体混合物以惰性气体为载体，以高于的速度沉积在浮法玻璃带表面形成屏蔽层，玻璃带的温度为610～710℃，屏蔽层的厚度在40nm～100nm、折射率为1.45～1.65。

S2将沉积了屏蔽层的玻璃传输到退火窑，在退火窑内温度为540～610℃的区域，向沉积了屏蔽层的浮法玻璃带表面通入已被雾化的含有锡源、锑源、氟源、磷源以及催化剂、氧化剂和稳定剂而混合制成的前质体气体混合物，用氮气作为载体，以高于的速度进行热分解反应，在镀有屏蔽层的玻璃带上形成厚度为200～560nm、辐射率小于0.2的具有低辐射性能的膜层。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在步骤S1中，所述气氛控制室的入口和出口处通入高速流动的包含氮气和/或氢气的保护气体来隔绝气氛控制室内的前质体气体混合物与外界空气的流通。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在步骤S1中，所述用于沉积屏蔽层的前质体气体混合物中的硅烷浓度为5～20％，乙烯浓度为85～100％，含氧源浓度为2～20％。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在步骤S1中，所述硅源是选自正硅酸乙酯、硅氧基硅烷、四氯硅烷、一氟硅烷、二氟硅烷、三氟硅烷和四氟硅烷中的至少一种。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在步骤S1中，所述含氧源是氧气、二氧化碳、空气、氧化二氮或亚磷酸三乙酯，所述惰性气体是氮气。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在步骤S1中，所述用于沉积屏蔽层的前质体气体混合物各组分与惰性气体的体积比为：硅源∶含氧源∶乙烯∶惰性气体＝[0.5～1.5]∶[2～8]∶[2～9]∶[3～10]。

7.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在步骤S2中，所述锡源是选自单丁基三氯化锡、三氯一丁基锡、二氯二丁基锡、一氯三丁基锡、二乙酸二丁基锡、丁基二氯化锡酯、四氯化锡、二丁基丁烯二酸锡和十二酸锡中的至少一种。

8.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在步骤S2中，所述锑源是选自三氯化锑、氯化亚锑和三溴化锑中的至少一种。

9.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在步骤S2中，所述氟源是选自三氟乙酸、过氟乙酸、三氟化磷、全氟醋酸、三氟甲苯中的至少一种。

10.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在步骤S2中，所述磷源是选自磷酸三乙酯、三氯氧磷、三乙基磷、三氯化磷、四氯三氧化二磷、氧氯化磷、四乙基磷酸铵中的至少一种。

11.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在步骤S2中，所述稳定剂是选自甲基丙烯酸甲酯、醋酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、醋酸酐、甲基异丁基酮、异丁烯酸，催化剂是水蒸气、甲醇、乙醇、丙醇中的至少一种。

12.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在步骤S2中，所述用于沉积低辐射膜层的前质体气体混合物中各成分的摩尔百分数比是：锡源∶锑源∶氟源∶磷源∶稳定剂∶氧化剂∶催化剂＝[1～10]∶[1～5]∶[1～2]∶[0.1～1]∶[0.1～3]∶[0.5～3]∶[0.1～2.5]。