[发明专利]电容式触控屏及其加工方法

说明书

【技术领域】

本发明涉及触控屏，更具体地说，涉及一种电容式触控屏及其加工方法。

【背景技术】

电容式触控屏通常包括基板，在基板靠近背光源一侧的膜面设有膜层，所述膜层通常依次包括ITO层、绝缘层、导电层和膜层保护层。ITO层中设有纵横交错的两个方向上的多根线迹，用于感应触点的位置；绝缘层用于将ITO层和导电层绝缘开；导电层中设有将ITO层中各线迹电连接至芯片的金属走线，为了避免金属走线对触控屏中间位置的可视区域的影响，金属走线通常设置在触控屏的四周；膜层保护层用于保护整个膜面，且保证整个触控屏的流平性。

由于如图1所示，在组装整个触控屏面板时，通常将触控屏20’的膜面21’朝向背光源10’一侧，而在空气面22’一侧设置一块覆盖整个触控屏20’的透明盖板30’，用于保护触控屏的基板不会因长期触摸而被划花，并且在透明盖板30’四周喷涂油墨31’，用于遮挡住触控屏20’四周的金属走线23’。由于增加了透明盖板30’，使得整个电容式触控屏面板的反射率增大而透射率降低，影响到触控屏面板的对比度，因而需要更大功率的背光源才能满足使用要求。

【发明内容】

本发明要解决的技术问题在于，针对现有技术中电容式触控屏在组装成面板时为遮挡导电层中的金属走线而增设的透明盖板会降低了面板的透射率的问题，提供一种透射率较高的电容式触控屏。

本发明解决该技术问题所采用的技术方案是：构造一种电容式触控屏，包括具有空气面和膜面的基板以及设置在基板膜面侧的触控屏膜层，所述触控屏膜层包括ITO层、绝缘层、导电层和膜层保护层，所述导电层中设有分布在基板四周的金属走线，所述基板膜面和触控屏膜层之间还设有能遮挡住所述金属走线的掩膜层。

在本发明所述的电容式触控屏中，所述掩膜层的材料是树脂或者金属和/或金属氧化物组成的混合物。

在本发明所述的电容式触控屏中，所述掩膜层的材料是金属和/或金属氧化物组成的混合物，所述掩膜层和膜层之间设有覆盖掩膜层的绝缘膜。绝缘膜可将掩膜层和触控屏膜层之间绝缘开来。

在本发明所述的电容式触控屏中，所述膜层为单面双层结构的触控屏膜层。

在本发明所述的电容式触控屏中，所述膜层为电桥式触控屏膜层。

本发明要解决的另一个技术问题在于，针对现有技术中电容式触控屏在组装成面板时为遮挡导电层中的金属走线而增设的透明盖板会降低了面板的透射率的问题，提供一种透射率较高的电容式触控屏的加工方法。

本发明解决该技术问题所采用的技术方案是：提供一种如权利要求1所述电容式触控屏的加工方法，包括以下步骤：

S10、准备基板，在基板膜面一侧制作出掩膜层，掩膜层的图案与预设的导电层中金属走线的分布图案相匹配，使得掩膜层正好能够遮挡住金属走线；

S30、在基板的膜面侧加工出触控屏膜层。

在本发明所述的电容式触控屏的加工方法，所述步骤S10中的掩膜层由金属和/或金属氧化物组成的混合物通过溅镀工艺制成；还包括步骤S20：在S10制得的基板膜面一侧涂覆一层感光绝缘材料，按照掩膜层的图案进行曝光、显影、刻蚀工艺，剩余感光绝缘材料形成的绝缘膜覆盖所述掩膜层中所有的掩膜。

在本发明所述的电容式触控屏的加工方法，所述步骤S10包括以下步骤：

S11、准备基板，通过涂覆工艺在基板膜面一侧涂上由树脂材料组成的掩膜；

S13、按照预设图案对掩膜进行曝光、显影、刻蚀工艺，剩下的掩膜形成的掩膜层与导电层中分布在基板四周金属走线相匹配，使得掩膜层能够完全遮挡住金属走线。

实施本发明的电容式触控屏以及实施本发明所述电容式触控屏的加工方法所加工出来的电容式触控屏，具有以下有益效果：通过在基板膜面和触控屏膜层之间设置能够遮挡住金属走线的掩膜层，避免了在基板空气面一侧设置的透明盖板，使得触控屏面板的透射率提高，减少了膜层的反射率，使得触控屏整体底色均匀，提高了视觉的效果；使得触控屏的对比度提高，可降低背光源的工作功率。同时，所有膜层均设置在基板的膜面一侧，保证了基板空气面一侧的流平性。

下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明。

【附图说明】

图1是现有技术中所示触控屏面板的结构示意图；

图2是本发明所述电容式触控屏的结构示意图；

图3是本发明所述电容式触控屏第一实施例的结构示意图；

图4是本发明所述电容式触控屏第二实施例的结构示意图。

【具体实施方式】