[发明专利]彩色滤光基板及液晶显示面板的制造方法

权利要求书

1.一种彩色滤光基板的制造方法，其特征在于：所述制造方法为：

提供一基板，所述基板具有一表面；

使用酸液对该表面进行亲水处理；

提供疏水性材料到经过该亲水处理后的该表面上，与该疏水性材料经过疏水反应的该表面形成疏水区域，未与该疏水性材料接触的该表面则形成亲水区域；

移除该疏水性材料；以及

提供彩色墨水，对应该彩色墨水的亲疏水性质以于该疏水区域或该亲水区域中形成彩色滤光图案。

2.根据权利要求1所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于：所述酸液是选自于硝酸HNO₃、硫酸H₂SO₄或冰醋酸CH₃COOH中的一种或几种的组合。

3.根据权利要求1所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于：所述在使用酸液对基板表面进行亲水处理之前，使用碱液处理基板表面。

4.根据权利要求3所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于：所述碱液是选自于氢氧化钠NaOH或氢氧化钾KOH或其组合。

5.根据权利要求1所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于：所述移除该疏水性材料的步骤包括：

提供有机溶剂移除该疏水性材料；

提供去离子水，清洗所述基板表面；

干燥该基板的表面。

6.根据权利要求1所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于：所述疏水性材料是选自于烷基长链硅氧化物、芳香族硅氧化物或环氧族硅氧化物中的一种或其组合。

7.根据权利要求6所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于：所述烷基长链硅氧化物包括：辛基三乙氧基硅烷octyl-triethoxy-silane或辛基三甲氧基硅烷octyl-trimethoxy-silane。

8.根据权利要求6所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于：所述芳香族硅氧化物包括：(1-萘基)三乙氧基硅烷(1-naphthyl)-triethoxy silane或三乙氧基(2-苯乙基)硅烷trimethoxy(2-phenylethyl)silane。

9.根据权利要求6所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于所述环氧族硅氧化物包括：环己烯乙基三乙氧基硅烷cyclohexenyl-ethyl-triethoxysilane或环己烯乙基三甲氧基硅烷cyclohexyl-ethyl-trimethoxysilane。

10.根据权利要求1所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于：所述使该疏水性材料与该表面产生疏水反应的步骤还包括：提供-能量给该疏水性材料与该基板的表面；加快疏水性材料与基板的反应速度，其中提供该能量的方式包括：对该基板的表面进行加热、照射微波或照射紫外光。

11.根据权利要求1所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于：所述提供该疏水性材料及提供该彩色墨水的方法包括喷墨法。

12.根据权利要求1所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于：更包括对该彩色墨水进行-烘烤制程，以形成该彩色滤光图案。

13.根据权利要求1所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于：更包括于该基板上形成一黑矩阵，隔开该彩色滤光图案。

14.根据权利要求13所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于：所述在该基板上形成黑矩阵的方法包括：喷墨法或微影制程。

15.一种液晶面板的制造方法，其特征在于：所述制造方法为：

提供一基板，所述基板具有一表面；

使用酸液对该表面进行亲水处理；

提供疏水性材料到经过该亲水处理后的该表面上，与该疏水性材料经过疏水反应的该表面形成疏水区域，未与该疏水性材料接触的该表面则形成亲水区域；

移除该疏水性材料；

提供彩色墨水，对应该彩色墨水的亲疏水性质以于该疏水区域或该亲水区域中形成彩色滤光图案，以得到彩色滤光基板；

提供主动组件数组基板，对向于该彩色滤光基板；以及

于该主动组件数组基板与该彩色滤光基板之间形成一液晶层。