[发明专利]一种高度有序的无机物图案化及其制备方法

权利要求书

1.一种图案化无机物膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

1)在容器中加入蒸馏水，使容器内的水蒸汽压达到饱和；

2)将聚合物、金属络合物和有机溶剂配成混合溶液，所述聚合物为用聚苯乙烯、聚酰亚 胺、聚苯乙烯-聚丙烯酸嵌段聚合物、聚苯乙烯-聚丁二烯-聚苯乙烯三元嵌段聚合物、苯乙烯- 乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段聚合物、聚苯乙烯-聚异戊二烯嵌段聚合物或聚苯乙烯-聚二甲基硅氧 烷嵌段聚合物，所述金属络合物为二茂铁、乙酰丙酮锌或乙酰丙酮钴，所述有机溶剂为四氢 呋喃溶液、二硫化碳或氯仿；

3)将混合溶液加在基片上，再放入上述充满饱和水蒸汽的容器中密封；

4)待有机溶剂挥发完后，即得到多孔结构薄膜，用254nm紫外光对多孔结构薄膜进行 辐照，再焙烧，即得到图案化无机物膜；所述多孔结构薄膜的表面具有均匀分布的半球形圆 孔。

2.如权利要求1所述的一种图案化无机物膜的制备方法，其特征在于按质量百分比，聚 合物的含量占聚合物与金属络合物总质量的50％～85％，聚合物与金属络合物占混合溶液总 质量的0.5％～10％。

3.如权利要求1所述的一种图案化无机物膜的制备方法，其特征在于所述基片为玻璃片。

4.如权利要求1所述的一种图案化无机物膜的制备方法，其特征在于所述辐照的时间为 2～16h。

5.如权利要求1所述的一种图案化无机物膜的制备方法，其特征在于所述焙烧的温度为 400～500℃，焙烧的升温速率为7℃/min，焙烧的时间为2～16h。