[发明专利]一种高度有序的无机物图案化及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200910111644.7 申请日: 2009-05-04
公开(公告)号: CN101544771A 公开(公告)日: 2009-09-30
发明(设计)人: 李磊;陈财康;张爱娟 申请(专利权)人: 厦门大学
主分类号: C08J5/00 分类号: C08J5/00
代理公司: 厦门南强之路专利事务所 代理人: 马应森
地址: 361005福*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 高度 有序 无机物 图案 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种表面图案化,尤其是涉及一种高度有序的无机物图案化及其制备方法。

背景技术

表面图案化是指在至少一维的方向上生成微米至nm级的规则表面结构,它在超分子科 学、微电子学、材料科学和细胞生物学等方面有着重要应用价值([1]Xia YN,Rogers JA, Paul KE,et al.Chem.Rev.,1999,99,1823)。经过表面图案化的聚合物薄膜在分离([2]R.E. Kersting,“synthetic polymer membrane”,Wiley,New York 1985)、光子带隙([3]J.E.G.J. Wijnhoven and W L.Vos,Science,1998,281,802)、光电子器件([4]M.Imada,S.Noda,A. Chutinan,T.Tokuda,M.Murata and G.Sasaki,Appl.Phys.Lett.,1999,75,316)和催化([5]A. Boker,Y.Lin,K.Chiapperini,R.Horowitz,M.Thompson,V.Carreon,T.Xu,C.Abetz,H.Skaff,A. D.Dinsmore,T.Emrick,T.P.Russell,Nat.Mater.,2004,3,302)等领域的应用已经得到了广泛的 关注和研究。

目前已有的制备高度有序的多孔薄膜的方法,包括刻蚀([6]P.T.Tanev,M.Chibwe,T.J. Pinnavaia,Nature 1994,368,321)或软刻蚀([7]T.W.Odom,J.C.Love,D.B.Wolfe,K.E.Paul and G.M.Whitesides,Langmuir,2000,18,5314)、胶状晶体([8]K.M.Kulinowski,P.Jiang,H. Vaswani and V.L.Colvin,Adv.Mater.,2000,12,833)、乳液([9]A.Imhof and D.J.Pine,Nature, 1997,389,948)、自组装共聚物([10]S.A.Jenekhe and X.Chen,Science,1999,283,372)和微 相分离嵌段共聚物([11]M.Templin,A.Frank,C.A.Du,A.Leist,A.Zhang,R.Ulrich,V. Schalder and U.Wiesner,Science,1997,278,1795)等。最近,Francois等人([12]G.Widawski, M.Rawieso and B.Francois,Nature,1994,369,397)发展了一种制备有序多孔薄膜的简单方法, 即所谓的呼吸图法。在这项技术中,聚合物溶液中的溶剂快速挥发,溶液表面的温度随之降 低,使高湿度环境中的水蒸气在聚合物溶液表面凝结成微小的球状液滴。这些液滴下沉,在 表面对流和热毛细管力的作用下,通过自组装成有序排列而分散在聚合物溶液中。由于水的 表面张力作用,随着溶剂的挥发,聚合物会吸附并包裹在水相界面上,把水滴的有序排列结 构复制下来,同时又防止了水滴的凝聚。最后,当溶剂和水完全挥发后,蜂窝状有序排列的 孔将留在聚合物膜上。

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