[发明专利]具遮蔽性的聚酰亚胺膜及其应用与制备方法

权利要求书

1.具遮蔽性的聚酰亚胺膜，其特征在于设有材质为聚酰亚胺的本体层和具遮蔽性的呈色层，呈色层设置在本体层上，呈色层由高分子物料与分散于该高分子物料中的呈色剂组成，或呈色层由高分子物料的前驱物与分散于该高分子物料中的呈色剂组成。

2.如权利要求1所述的具遮蔽性的聚酰亚胺膜，其特征在于所述呈色层的厚度为1～3μm，所述呈色层按质量比的含量为高分子物料或其前驱物∶呈色剂＝(1～10)∶1。

3.如权利要求1所述的具遮蔽性的聚酰亚胺膜，其特征在于所述高分子物料选自聚酰亚胺、芳香族聚酰胺、芳香族聚酰胺亚胺、芳香族聚恶二唑、芳香族聚酰肼或芳香族聚醚酰亚胺；所述高分子物料的前驱物为聚酰胺酸。

4.如权利要求1所述的具遮蔽性的聚酰亚胺膜，其特征在于所述呈色剂为二氧化钛、氮化硼、碳黑、氮化铝中的至少一种。

5.如权利要求1所述的具遮蔽性的聚酰亚胺膜，其特征在于呈色层的透光度在1％以下。

6.如权利要求1所述的具遮蔽性的聚酰亚胺膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

1)选取聚酰亚胺本体层；

2)将液态组成物涂布于聚酰亚胺本体层上，固化处理后，得具遮蔽性的聚酰亚胺膜。

7.如权利要求6所述的具遮蔽性的聚酰亚胺膜的制备方法，其特征在于所述液态组成物的组成及其按质量比的含量为高分子物料或其前驱物∶呈色剂＝1～10∶1。

8.如权利要求6所述的具遮蔽性的聚酰亚胺膜的制备方法，其特征在于所述液态组成物的粘度为200～3000cps。

9.如权利要求1所述具遮蔽性的聚酰亚胺膜用于制备聚酰亚胺膜/基材积层材料，所述聚酰亚胺膜/基材积层材料包括基材和设置于该基材上的具遮蔽性的聚酰亚胺膜，具遮蔽性的聚酰亚胺膜的呈色层远离该基材设置。

10.如权利要求9所述聚酰亚胺膜/基材积层材料的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

1)在基材上设置聚酰亚胺本体层；

2)在聚酰亚胺本体层上涂布液态组成物，固化处理后，得聚酰亚胺膜/基材积层材料。