[发明专利]太阳能级多晶硅提纯装置与提纯方法无效

专利信息
申请号: 200910112690.9 申请日: 2009-10-22
公开(公告)号: CN101698481A 公开(公告)日: 2010-04-28
发明(设计)人: 罗学涛;郑淞生;李锦堂;蔡靖;陈文辉;龚惟阳;沈晓杰;陈朝 申请(专利权)人: 厦门大学
主分类号: C01B33/037 分类号: C01B33/037;C30B29/06
代理公司: 厦门南强之路专利事务所 35200 代理人: 马应森
地址: 361005 *** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 太阳 能级 多晶 提纯 装置 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种多晶硅的提纯方法,尤其是涉及一种利用Si-Cu合金通过定向凝固方法提纯太阳能级多晶硅的装置与提纯方法。

背景技术

多晶硅是制备单晶硅和太阳能电池的原材料,是全球电子工业及光伏产业的基石。采用晶体硅所制备的太阳能电池其性能稳定、寿命长,是制备太阳能电池的主要材料。应用结果表明,光电转换效率为15%的太阳能电池平均每平方米每年可以产生100~200kWh的电量(PeterWoditscha,Wolfgang Kochb,Solar grade silicon feedstock supply for PV Industry.Solar EnergyMaterials & Solar Cells.2002,72:11)。因此,太阳能以其分布广泛、清洁无污染等优点将成为21世纪解决能源危机和环境问题的朝阳产业。

所谓的“提纯”是指根据形成基质元素或杂质元素的物理化学性质,通过合适的物理化学工艺去除基质中的杂质元素。

对于被用作半导体材料的硅而言,目前,最成熟也是最大规模的生产工艺是西门子法或改良的西门子法。这类工艺首先将硅石通过C还原得到纯度至少为98%的工业硅,然后将工业硅在1400℃左右的高温下与HCl反应生成SiHCl3(或SiCl4),经过蒸馏提纯后,再在西门子反应器(或流态床)中用高纯H2还原得到纯度最高可达12N的高纯多晶硅。至今,全世界90%的多晶硅都是利用此工艺生产。这类方法的初期投资大、建设周期长、能耗大、成本高,且中间产品SiHCl3(或SiCl4)有剧毒,大量使用液氯和氢气,存在环保及安全隐患。

目前,太阳能电池工业转换材料绝大多数都采用硅,而用于生产太阳能电池的硅材料主要来自于半导体工业的废料。硅原料(多晶硅)的缺乏严重威胁到光伏产业的增长。作为硅集成电路和器件用的多晶硅原料是由西门子法生产的,因此来自半导体级硅的废料并不会显著增加。但随着光伏产业的迅速发展,这些硅原料已远远不能满足太阳能电池的需求,硅原料已经成为光伏产业发展的最主要的瓶颈之一。因此,研究开发一种低成本太阳能级多晶硅的生产技术是非常必要的。

对于金属杂质Fe、Ti等,由于其在硅中的分凝系数比较大,因此通过严格的定向凝固可以达到很好的去除效果,基本可以满足太阳能电池的要求。

对于P杂质,由于其在高温下的饱和蒸气压远远大于硅,因此通过真空熔炼的方法,在一定的高真空下,使磷挥发进入气相中,可以得到很好的除磷效果,如本申请的发明人的研究(Song-sheng ZHENG,Jing CAI,Chao CHEN,Xue-tao LUO,‘Purification of Polycrystalline Siliconin Vacuum Induction Smelting Furnace’,2nd International Workshop on Crystalline Silicon Solar Cells(CSSC 2007),Dec.9-12(2007):135-142)。而对于B杂质,因其在硅中的分凝系数(0.8)接近于1,无法通过定向凝固去除,且其沸点高达2550℃,因此通过真空的办法也没有明显去除效果。但B的氧化物在真空下比较容易挥发,也较容易进入SiO2的碱性融渣中,因此目前除B的主要方法是在真空下通氧化性气体,如美国专利US 5972107(Frederick Schmid,Chandra P.Khattak.Method for purifying silicon,Patent Number 5972107,Oct.26,1999);或者通过造渣工艺,如美国专利US 5788945(Anders Schei,Method for refining of silicon,Patent Number 5788945,Aug.4,1998);以及二者相结合的方法,如美国专利US 6,368,403 B1(Frederick Schmid,Chandra P.Khattak,David B.Joyce.Method and apparatus for purifying silicon,Patent Number US6368403B1,Apr.9,2002)。另外,C、O等杂质通过通入水蒸气也可以达到很好的去除效果。

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