[发明专利]电光装置及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200910118224.1 申请日: 2009-02-25
公开(公告)号: CN101520582A 公开(公告)日: 2009-09-02
发明(设计)人: 茂筑宽士 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/133;H01L27/12;H01L21/84
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 陈海红;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 电光 装置 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种电光装置及其制造方法。

背景技术

近年来,在便携电话机、便携型计算机、摄像机等的电子设备中,显示部广泛采用液晶装置等的电光装置。在如此的液晶装置中,由于光到达作为其构成要件的液晶驱动用的TFT(薄膜晶体管)而流动泄漏电流,存在显示质量可能下降这一问题。为了解决如此的问题,例如在专利文献1中,公开了如下液晶装置:在TFT的上层侧及下层侧的至少一方配置遮光膜,抑制光向该TFT的入射。并且,在专利文献2中,公开了如下液晶装置:使遮光膜的光反射率形成为,在与TFT相对的一侧降低、在其相反侧升高,抑制光向该TFT的入射。

【专利文献1】日本特开平10—301100号公报

【专利文献2】日本特开平2000—330133号公报

可是因为在上述液晶装置中遮光膜为平板状,所以无法充分遮挡相对于TFT从横向方向或者倾斜方向进行入射的光,存在无法充分减轻由泄漏电流所引起的显示质量的下降这一问题。

发明内容

本发明,为了解决上述问题的至少一部分而作出,能够作为以下的方式或应用例而实现。

(应用例1)

一种电光装置,其至少具备:基板、形成于上述基板上的具有预定宽度的第1遮光膜、形成于上述第1遮光膜上的第1层间绝缘膜、形成于上述第1层间绝缘膜上的晶体管、形成于上述晶体管上的第2层间绝缘膜、和形成于上述第2层间绝缘膜上的第2遮光膜,其特征为:上述晶体管的半导体层,以从上述基板侧由上述第1遮光膜覆盖的方式设置,并且以从与上述基板相反侧由上述第2遮光膜覆盖的方式设置;上述第2遮光膜,形成得比上述第1遮光膜宽;上述第1层间绝缘膜的膜厚最薄的部分,俯视存在于上述第1遮光膜的端部与上述第2遮光膜的端部之间。

如果为如此的构成,则形成于上述第1层间绝缘膜上的上述第2层间绝缘膜,能够形成得连上述晶体管的侧面也覆盖。从而,形成于上述第2层间绝缘膜上的上述第2遮光膜形成为连上述晶体管的侧面也覆盖的形状,能够降低从横向方向或者倾斜方向进行入射的光的影响。

(应用例2)

一种电光装置,其至少具备:基板、形成于上述基板上的具有预定宽度的第1遮光膜、形成于上述第1遮光膜上的第1层间绝缘膜、形成于上述第1层间绝缘膜上的晶体管、形成于上述晶体管上的第2层间绝缘膜、和形成于上述第2层间绝缘膜上的第2遮光膜,其特征为:上述晶体管的半导体层,以从上述基板侧由上述第1遮光膜覆盖的方式设置,并且以从与上述基板相反侧由上述第2遮光膜覆盖的方式设置;上述第2遮光膜,形成得比上述第1遮光膜宽;上述第1遮光膜的表面与上述第1层间绝缘膜的表面的间隔变得最短的部分,俯视存在于上述第1遮光膜的端部与上述第2遮光膜的端部之间。

如果为如此的构成,则形成于上述第1层间绝缘膜上的上述第2层间绝缘膜,能够形成得连上述晶体管的侧面也覆盖。从而,形成于上述第2层间绝缘膜上的上述第2遮光膜形成为连上述晶体管的侧面也覆盖的形状,能够遮挡从横向方向或者倾斜方向进行入射的光,能够降低由泄漏电流所引起的显示质量的下降。

(应用例3)

一种电光装置,其至少具备:基板、具有形成于上述基板上的预定宽度的第1遮光膜、形成于上述第1遮光膜上的第1层间绝缘膜、形成于上述第1层间绝缘膜上的晶体管、形成于上述晶体管上的第2层间绝缘膜、和形成于上述第2层间绝缘膜上的第2遮光膜,其特征为:上述晶体管的半导体层,以从上述基板侧由上述第1遮光膜覆盖的方式设置,并且以从与上述基板相反侧由上述第2遮光膜覆盖的方式设置;上述第2遮光膜,形成得比上述第1遮光膜宽;上述第2层间绝缘膜的表面与上述基板表面的间隔变得最短的部分,俯视存在于上述第1遮光膜的端部与上述第2遮光膜的端部之间。

如果为如此的构成,则上述第2层间绝缘膜能够形成为不仅覆盖上述晶体管的上表面、而且也覆盖侧面的形状。从而,能够遮挡从横向方向或者倾斜方向入射于上述晶体管的光,能够降低由泄漏电流所引起的显示质量的下降。

(应用例4)

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