[发明专利]具微纹路图案的热转写结构无效
| 申请号： | 200910118797.4 | 申请日： | 2009-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN101837693A | 公开（公告）日： | 2010-09-22 |
| 发明（设计）人： | 林圳盛 | 申请（专利权）人： | 明滕薄膜股份有限公司 |
| 主分类号： | B41M5/42 | 分类号： | B41M5/42 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 纹路 图案 转写 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种具微纹路图案的热转写结构，其特征在于，包含：
一基板；
一离型剂涂层，其是设于该基板上；
一第一紫外线感光树脂层，其是设于该离型剂涂层上，并具有微纹路图案；以及
一热转胶层，其是设于该第一紫外线感光树脂层上。
2.根据权利要求1所述的具微纹路图案的热转写结构，其特征在于，该第一紫外线感光树脂层相对于该热转胶层的表面具该微纹路图案，且该第一紫外线感光树脂层相对于该离型剂涂层的表面为镜面，该离型剂涂层相对于该第一紫外线感光树脂层的表面为镜面。
3.根据权利要求1所述的具微纹路图案的热转写结构，其特征在于，所述结构更包含一第二紫外线感光树脂层，其是设于该基板与该离型剂涂层之间，且该第一紫外线感光树脂层相对于该热转胶层的表面为镜面，该第一紫外线感光树脂层相对于该第二紫外线感光树脂层的表面具该微纹路图案，该第二紫外线感光树脂层相对于该第一紫外线感光树脂层的表面具与该微纹路图案相对应的反相图案。
4.根据权利要求1所述的具微纹路图案的热转写结构，其特征在于，该微纹路图案的间距在10微米到100纳米之间。
5.根据权利要求1所述的具微纹路图案的热转写结构，其特征在于，更包含一油墨层，其是设于该第一紫外线感光树脂层与该热转胶层之间。
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