[发明专利]缺陷检查方法

说明书

技术领域

本发明涉及检查半导体晶片和液晶玻璃基板等基板有无缺陷的基板 检查方法。

背景技术

以往，公知有针对半导体晶片和液晶玻璃基板等基板，检查其表面 上是否有缺陷的基板检查装置。这样的基板检查装置通常利用基于以下 条件的缺陷检测结果来执行缺陷分类等：基于配方(recipe)的检查区域 设定等晶片设计信息的设定；拍摄图像时的光学条件的设定；获取拍摄 的图像数据、并在根据所获取的图像数据检测缺陷时所使用的阈值等各 种参数的设定。这里所说的“配方”是按照SEMI(Semiconductor Equipment and Materials International：半导体设备和材料组织)标准定义的，是使用 针对装置的命令、设定以及参数的组合来决定晶片的处理条件的。

此外，关于用于缩短生成基板检查装置所使用的配方的时间的方法、 或者用于对应于基板检查时的经过时间变化而始终以最佳检查条件进行 检查的方法的现有技术，例如公知有以下技术。

(第1现有技术)

首先，第1现有技术是以抑制基板检查的波动而始终进行最佳检查 为目的，使用多个成为比较对象的图像数据来计算两个阈值的方法(例 如，参照专利文献1)。具体而言是如下的方法：将第1阈值中最小的阈 值登记为参考图像，对该参考图像和检查图像进行比较，将不成为疑似 缺陷的最小阈值作为第2阈值。

此外，还包括随时更新参考图像的功能。并且，通过使用被称为调 整服务器的其他装置执行这样的功能，能够避免占用基板检查装置，还 提高了生产量。

(第2现有技术)

接下来，第2现有技术是以下的方法：以缩短基板检查装置所使用 的配方生成的时间为目的，使用能够分类缺陷的功能，根据检查结果的 数据对真缺陷和假缺陷进行分类(例如，参照专利文献2)。具体而言是 如下的方法：利用这样的缺陷分类功能从多个检查条件中自动挑选最适 于检测的条件。

【专利文献1】日本特许公开公报：日本特开2006-118870号公报

【专利文献2】日本特许公开公报：日本特开2005-17159号公报

但是，在上述现有技术中，与其说以缩短配方生成时间为目的，不 如说以如何不选择疑似缺陷，并能够对应于经过时间变化为目的。此外， 作为其对策，随时进行参考图像的更新。由此，在缩短配方生成的时间 方面效果较差。

此外，在光学条件的设定等一部分的检查条件的设定中，必须使用 基板检查装置，不能避免基板检查装置的使用。但是，在基板检查等工 厂的生产线中使用的情况下，存在以下问题：为了生成配方，总是占用 基板检查装置，给针对基板检查的生产节拍或运转率带来大的影响。

例如，具有在检查基板方面不清楚怎样确定最佳检查条件的情况。 此时，关于在基板装置上进行检查条件的调整方面，效率较差。

发明内容

本发明正是鉴于上述问题而完成的，目的在于提供一种能够通过提 高针对基板检查的基板检查装置的运转率从而提高检查整体的生产量的 基板检查方法。

为了解决上述课题，本发明提供了一种缺陷检查方法，该方法是在 经由网络而将依次拍摄多个基板来对缺陷进行检查的基板检查装置和对 所述基板检查装置中所使用的配方进行设定的配方服务器连接起来的缺 陷检查系统中，进行新品种基板的检查时的缺陷检查方法，该缺陷检查 方法具有：检查区域设定工序，在检查其他品种基板的过程中，至少设 定所述基板的检查区域，作为由所述配方服务器进行的新品种基板的所 述配方的初始设定；光学条件设定工序，设定用于所述摄像的光学条件； 暂定检查工序，所述基板检查装置使用包括所述光学条件和由所述配方 服务器所设定的所述检查区域的暂定配方来拍摄所述基板从而获取图像 数据；配方调整工序，由所述配方服务器执行，使用由所述基板检查装 置所获取的图像数据来修改所述暂定配方从而生成调整配方；以及主检 查工序，所述基板检查装置根据所述配方服务器所修改的所述调整配方 来检查所述基板。

根据本发明，在由基板检查装置所执行的基板的检查工序中，通过 与基板检查装置连接的配方服务器执行配方的更新，因此能够缩短基板 检查装置的检查工序整体的生产流程，并且始终执行适当的检查。

附图说明

图1是用于说明本发明的第1实施方式的整体的图。