[发明专利]光波导有效
| 申请号： | 200910126378.5 | 申请日： | 2007-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN101498814A | 公开（公告）日： | 2009-08-05 |
| 发明（设计）人： | 邵鸣达;俞国庆;徐琴琴;王文龙;王蔚 | 申请（专利权）人： | 晶方半导体科技（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/10 | 分类号： | G02B6/10;G02B6/12;G02B6/13 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘诚午;李 丽 |
| 地址： | 215126江苏省苏州市苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 波导 | ||
【权利要求书】：
1.一种利用半导体集成电路制造工艺制作的晶圆级光波导，包括基底和 位于基底上并在芯层成型过程中限制芯层形状的限制层，所述基底的材料为 半导体材料，所述限制层的材料为硅、氧化硅、氮化硅、氮氧化硅和硼磷硅 酸盐玻璃中的一种，所述限制层中具有凹槽，凹槽两侧的端面为斜面，至少 在所述斜面表面具有反射镜面层，所述光波导还包括旋涂形成在所述凹槽中 的芯层，在所述芯层的表面旋涂形成有包层，所述包层仅位于芯层的上表面， 所述芯层的下表面为反射镜面层，所述芯层和包层的材料为可旋涂高分子感 光材料。
2.如权利要求1所述的光波导，其特征在于：所述基底和限制层为同一 层。
3.如权利要求1所述的光波导，其特征在于：所述反射镜面层的材料为 金属层。
4.如权利要求1所述的光波导，其特征在于：所述芯层的材料为正性光 致抗蚀剂、负性光致抗蚀剂或其混合物。
5.如权利要求1所述的光波导，其特征在于：所述斜面与所述基底表面 之间的锐角为45度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于晶方半导体科技（苏州）有限公司，未经晶方半导体科技（苏州）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910126378.5/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
