[发明专利]多向气体分配系统与多向气体分配淋浴头装置

权利要求书

1.一种多向气体分配系统，包括：

一腔体，用以容纳多路气体且排出所述气体；

一淋浴头，设置于该腔体之中，该淋浴头包括至少一多通道气体传递管件；以及

至少两分支管路，设置于所述至少一多通道气体传递管件之中，所

述至少两分支管路用以同时将未混合的所述气体排放进入该腔体。

2.如权利要求1所述的多向气体分配系统，还包括至少一挡板，所述至少一挡板邻接于所述至少一多通道气体传递管件。

3.如权利要求1所述的多向气体分配系统，其中，所述至少两分支管路包括一内分支管路与一外分支管路，该内分支管路由该外分支管路所围绕，该内分支管路隔离于该外分支管路，所述至少两分支管路的一分支管路具有一邻接挡板。

4.如权利要求3所述的多向气体分配系统，其中，该内分支管路包括一结构，该结构用以将该内分支管路的一内部区分为多个通道，所述多个通道的各通道彼此是相互隔离的。

5.如权利要求1所述的多向气体分配系统，还包括一控制器，该控制器用以对一或多个平台温度、一平台回转、一室压力与一气体输入区域进行控制。

6.如权利要求5所述的多向气体分配系统，还包括一平台，该平台用以握持多个工件，该平台与所述至少一多通道气体传递管件之间的一距离为可变的，该距离由该控制器所控制，所述至少两分支管路包括一第一分支管路与一第二分支管路，该第一分支管路与该平台之间的距离不等于该第二分支管路与该平台之间的距离。

7.如权利要求6所述的多向气体分配系统，其中，所述至少一多通道气体传递管件的一直径约小于该平台的一直径的1/5。

8.如权利要求6所述的多向气体分配系统，其中，所述至少一多通道气体传递管件包括一出口孔，该出口孔的一直径约小于该平台的一直径的1/10。

9.一种多向气体分配淋浴头装置，包括：

一气体输入区域，用以同时输入多路气体；以及

一多通道气体传递管件，包括多个分支管路，通过该多通道气体传递管件的所述分支管路维持所述气体的未混合。

10.如权利要求9所述的多向气体分配淋浴头装置，其中，该多通道气体传递管件包括一内分支管路与一外分支管路，该内分支管路由该外分支管路所围绕，所述气体的各气体被限制仅能经由该内分支管路或该外分支管路进行流动。

11.如权利要求10所述的多向气体分配淋浴头装置，其中，该内分支管路包括了一结构，该结构用以将该内分支管路的一内部区分为多个通道，所述气体的各气体独立地流动通过该内分支管路的所述通道的一通道。

12.如权利要求9所述的多向气体分配淋浴头装置，还包括了一结构，该结构用以将该内分支管路的一内部区分为多个通道，所述气体的各气体独立地流动通过该多通道气体传递管件的所述通道的一通道。

13.如权利要求9所述的多向气体分配淋浴头装置，其中，该多向气体分配淋浴头装置包括一第一分支管路与一第二分支管路，该第一分支管路由该第二分支管路所围绕，该第二分支管路由一同心圆分支管路所围绕，所述气体的各气体被限制仅能经由该第一分支管路、该第二分支管路与该同心圆分支管路中之一进行流动。

14.一种半导体制造多向气体分配系统，包括：

一控制器；

一气体输入区域，其中，该控制器用以独立地对于该气体输入区域所流出的多路气体中的各气体的一气流进行控制；

一腔体，用以排出所述气体；

一淋浴头，设置于该腔体之中以用以收容所述气体，该淋浴头包括至少一多通道气体传递管件，所述气体中的一第一气体与一第二气体同时被传递且未混合而至该腔体中的至少一工件；以及

一平台，用以握持所述至少一工件。

15.如权利要求14所述的半导体制造多向气体分配系统，还包括至少一挡板，该挡板位于该腔体。