[发明专利]多色调光掩模及其制造方法、以及图案转印方法

权利要求书

1.一种液晶显示装置制造用多色调光掩模，其在透明基板上分别形 成有遮光膜以及透过曝光光的一部分的半透光膜，并通过对各个膜实施 规定的构图而形成包含遮光部、透过曝光光的一部分的多个半透光部以 及透光部的转印图案，该液晶显示装置制造用多色调光掩模的特征在于，

通过对所述多个半透光部中被选择的部分的半透光膜进行与其他部 分不同的表面改质处理，使所述多个半透光部的、针对包含i线～g线的 波段的曝光光的透过率面内分布范围为2％以内。

2.根据权利要求1所述的液晶显示装置制造用多色调光掩模，其特 征在于，

所述半透光膜由含有金属硅化物的材料构成。

3.根据权利要求2所述的液晶显示装置制造用多色调光掩模，其特 征在于，

所述半透光膜由不含有氮的材料构成。

4.一种液晶显示装置制造用多色调光掩模的制造方法，其准备在透 明基板上形成有遮光膜和透过曝光光的一部分的半透光膜的光掩模坯 体，并通过对各个膜实施规定的构图而形成包含遮光部、透过曝光光的 一部分的多个半透光部以及透光部的转印图案，其特征在于，该液晶显 示装置制造用多色调光掩模的制造方法包括以下工序：

图案形成工序，分别对所述半透光膜和所述遮光膜实施基于蚀刻的 构图，形成所述转印图案；以及

表面改质工序，通过对所述转印图案所包含的所述多个半透光部中 被选择的部分的半透光膜进行与其他部分不同的表面改质处理，减小所 述转印图案中存在的半透光部的、针对包含i线～g线的波段的曝光光条 件的透过率面内分布范围。

5.根据权利要求4所述的液晶显示装置制造用多色调光掩模的制造 方法，其特征在于，

所述表面改质工序包括提高所述半透光膜的耐药性的处理。

6.根据权利要求4所述的液晶显示装置制造用多色调光掩模的制造 方法，其特征在于，

所述表面改质处理包括对所述转印图案中的半透光部中被选择的部 分照射规定能量的处理。

7.根据权利要求4所述的液晶显示装置制造用多色调光掩模的制造 方法，其特征在于，

所述表面改质处理包括对所述转印图案中的半透光部中被选择的部 分实施加热的处理。

8.根据权利要求4所述的液晶显示装置制造用多色调光掩模的制造 方法，其特征在于，

该制造方法在所述图案形成工序后，具有测定所述多个半透光部的 透过率的工序，在所述表面改质工序中，根据所述测定结果进行所述表 面改质处理。

9.根据权利要求8所述的液晶显示装置制造用多色调光掩模的制造 方法，其特征在于，

所述表面改质工序使所述半透光部的透过率的面内分布为2％以下。

10.一种图案转印方法，其特征在于，

使用权利要求1～3中任一项所述的多色调光掩模、并照射曝光机的 曝光光，来将所述多色调光掩模的转印图案转印到被加工层上。

11.一种图案转印方法，该图案转印方法的特征在于，

使用通过权利要求4～权利要求9中任一项所述的制造方法制成的 多色调光掩模、并照射曝光机的曝光光，来将所述多色调光掩模的转印 图案转印到被加工层上。

12.根据权利要求11所述的图案转印方法，其特征在于，

使用包含i线～g线的波段的曝光光来作为所述曝光光。