[发明专利]显示装置的制造方法有效

专利信息
申请号: 200910130346.2 申请日: 2006-12-12
公开(公告)号: CN101552231A 公开(公告)日: 2009-10-07
发明(设计)人: 朴承圭;许宗茂 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L21/82 分类号: H01L21/82;H01L21/027;H01L51/56
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 章社杲;吴贵明
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 显示装置 制造 方法
【说明书】:

本申请是申请号为200610167268.X、申请日为2006年12月12日、发明名称为“掩膜及使用该掩膜制造显示装置的方法”的原案申请的分案申请。

相关申请交叉参考

本申请要求于2005年12月13日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第2005-0122749号的优先权,其公布内容结合于此作为参考。

技术领域

本发明涉及一种掩膜以及一种使用沉积低分子量材料的掩膜来制造显示装置的方法。

背景技术

可以以低电压驱动的有机发光二极管(OLED)显示器既薄又轻,并且具有宽视角和相对较短的响应时间。OLED包括诸如电洞注入层和发光层的多个有机层,其可以通过以下方法形成:使用荫罩和低分子量材料的沉积方法、通过喷嘴滴入有机材料的喷墨印刷方法、使用激光的涂布方法,等等。在这些方法中,低分子沉积方法使用最为广泛。当通过低分子沉积方法形成有机层时,使用具有开口图案的荫罩将发光材料精确地沉积在对应于RGB像素的像素电极上。

但是,制造对应于大尺寸显示设备的荫罩,并且精确地将开口图案与像素电极对准是比较困难的。

发明内容

根据本发明,掩膜包括:支承框架,形成有图案形成区域;多个图案形成部分,形成在图案形成区域中;以及辅助支承框架,形成在图案形成部分之间。图案形成部分在四个方向上彼此隔开正方形的一个边长的长度。每一个图案形成部分均可以包括彼此有规则地隔开的条纹形状或矩形形状。图案形成部分可以包括多个开口,这些开口在行方向和/或列方向之一上彼此邻接,并且在另一方向上彼此隔开预定距离。根据本发明的实施例,图案形成部分包括随机形成在其边缘区域中的开口。

根据本发明的实施例,图案形成部分包括至少一对第一和第二开口图案,这些开口图案的开口随机形成且彼此相对,而且当第一和第二开口图案重叠时,开口有规则地排列。

根据本发明的实施例,图案形成部分包括两对开口图案,这些开口图案的开口随机形成且彼此相对,而且当两对开口图案重叠时,开口有规则地排列。

根据本发明的实施例,图案形成部分包括四个不同的角部开口图案,这些角部开口图案形成于图案形成部分的角部中且随机形成有开口,而且当多个角部开口图案重叠时,开口有规则地排列。

根据本发明的实施例,图案形成部分包括一对开口图案,这些开口图案的开口随机形成,并且这些开口图案形成在图案形成部分的边缘中,而且当该对开口图案重叠时,开口有规则地排列。

根据本发明的实施例,掩膜介于绝缘基板与有机材料之间,并且使有机材料可以沉积在绝缘基板的预定位置上。

根据本发明的实施例,图案形成部分相对于辅助支承框架突出。

通过提供一种掩膜,可以实现本发明的上述和/或其它方面,该掩膜包括:支承框架,形成有图案形成区域;多个图案形成部分,形成在图案形成区域中,并且包括随机形成的开口;以及辅助支承框架,形成在图案形成部分之间。

根据本发明的实施例,图案形成部分包括至少一对第一和第二开口图案,这些开口图案彼此相对,而且当第一和第二开口图案重叠时,开口有规则地排列。

通过提供一种显示装置的制造方法,可以实现本发明的上述和/或其它方面,该方法包括:准备包括薄膜晶体管和连接至该薄膜晶体管的像素电极的基板;将掩膜附于基板上,该掩膜包括形成有图案形成区域的支承框架、形成在图案形成区域中的多个图案形成部分、以及形成在图案形成部分之间的辅助支承框架;在对应于图案形成部分的像素电极上沉积发光材料;移动掩膜,以将图案形成部分设置在对应于辅助支承框架的像素电极上;通过重复沉积发光材料以及移动掩膜的步骤,形成具有发光材料的发光层。

根据本发明的实施例,掩膜的制造包括:一体形成支承框架和辅助支承框架;准备包括图案形成部分和支承图案形成部分周边的保持件的多个图案形成单元;以及在对图案形成部分施加张力的同时将图案形成单元焊接至辅助支承框架。

根据本发明的实施例,辅助支承框架包括对应于保持件向上突出的突起,并且图案形成单元以保持件安放在突起中的状态被焊接。

根据本发明的实施例,掩膜的制造包括:一体形成支承框架和辅助支承框架;准备形成有与图案形成部分对应的开口的矩形框架,并且在对图案形成部分施加张力的同时将图案形成部分焊接至框架;以及将框架与支承框架结合。

通过提供一种掩膜,可以实现本发明的上述和/或其它方面,该掩膜包括:支承框架,形成有图案形成区域;多个图案形成部分,形成在图案形成区域中;以及辅助支承框架,形成在图案形成部分之间,并且相对于图案形成部分凹入。

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