[发明专利]具有阻绝层的抛光垫和其制造方法有效

专利信息
申请号: 200910130360.2 申请日: 2009-04-02
公开(公告)号: CN101850541A 公开(公告)日: 2010-10-06
发明(设计)人: 冯崇智;姚伊蓬;洪永璋;王俊达;刘玮得 申请(专利权)人: 贝达先进材料股份有限公司
主分类号: B24D11/00 分类号: B24D11/00;B24D11/02
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 孟锐
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 具有 阻绝 抛光 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种抛光垫,其包括:

底材,其以高分子体包覆纤维层而成;

阻绝层,其位于所述底材上;和

研磨层,其位于所述阻绝层上,所述研磨层为高分子弹性体且具有多个长柱状孔隙。

2.如权利要求1所述的抛光垫,其中所述纤维层为无纺布,所述纤维层的材质为聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、尼龙或其混合物,所述高分子体的材质为聚氨酯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、高分子树脂或其混合物,所述阻绝层的材质为聚氨酯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、高分子树脂、金属薄层或金属粉末。

3.如权利要求1所述的抛光垫,其中所述底材具有表面,所述纤维层的部分纤维显露于所述表面,所述阻绝层更包覆显露的部分纤维。

4.如权利要求1所述的抛光垫,其中所述阻绝层涂布于底材上,所述研磨层涂布于所述阻绝层上,且所述研磨层的材质为聚氨酯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、高分子树脂或其混合物。

5.如权利要求1所述的抛光垫,其中所述长柱状孔隙分布的厚度为所述研磨层总厚度的至少二分之一,所述长柱状孔隙的深度大于所述研磨层总厚度的二分之一,所述抛光垫的压缩率为5%至50%,且所述抛光垫的回复率大于80%。

6.一种制造抛光垫的方法,其包括以下步骤;

(a)提供底材,所述底材是以高分子体包覆纤维层而制成,所述底材具有表面;

(b)在所述底材的表面上形成阻绝层;

(c)在所述阻绝层上形成高分子弹性体;

(d)固化所述高分子弹性体,以形成研磨层,所述研磨层具有多个长柱状孔隙;和

(e)研磨所述研磨层的表面,使得所述研磨层具有多个表面开孔。

7.如权利要求6所述的制造方法,其中步骤(a)包括以下步骤:

(a1)提供纤维层;

(a2)将所述纤维层浸置于高分子溶液中,使所述高分子溶液包覆所述纤维层;和

(a3)固化所述高分子溶液,以形成所述底材。

8.如权利要求6所述的制造方法,其中所述步骤(a)中所述纤维层的部分纤维显露于所述表面,所述步骤(b)中所述阻绝层更包覆显露的部分纤维。

9.如权利要求6所述的制造方法,其中在步骤(b)中,以涂布、印刷轮或转写方式将所述阻绝层形成于所述底材上,在步骤(c)中,以涂布、印刷轮或转写方式将所述高分子弹性体形成于所述阻绝层上,所述步骤(e)是研磨所述研磨层的表面,并以真空吸力去除残屑。

10.如权利要求6所述的制造方法,其中所述步骤(d)是将所述底材、所述阻绝层和所述高分子弹性体浸置于固化液中,以固化所述高分子弹性体而形成研磨层,且于所述研磨层中产生所述长柱状孔隙,其中所述固化液包括二甲基甲酰胺和水。

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