[发明专利]基板处理系统及显影方法有效
| 申请号： | 200910131239.1 | 申请日： | 2009-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN101526760A | 公开（公告）日： | 2009-09-09 |
| 发明（设计）人： | 曾振助;徐士超;林欣洵;刘孟容 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26;G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 梁 挥;祁建国 |
| 地址： | 台湾*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 处理 系统 显影 方法 | ||
1.一种基板处理系统，其特征在于，包含：
一水洗管路装置，用以控制水的通入；
一喷洒装置，经由一输送管路连接该水洗管路装置，并用以对该基板喷洒液态物质；以及
一气体管路装置，与该水洗管路装置并联相接，且经由该输送管路连接该喷洒装置，并用以控制气体的通入，将该输送管路以及该喷洒装置中残余的物体喷出。
2.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，还包含：一检测装置，直接或间接地电性连接于该气体管路装置。
3.根据权利要求2所述的基板处理系统，其特征在于，该检测装置用以检测该喷洒装置对该基板喷洒液态物质之后所在位置。
4.根据权利要求3所述的基板处理系统，其特征在于，该检测装置在检测该喷洒装置所在位置之后，驱动该气体管路装置将该输送管路以及该喷洒装置中残余的物体喷出。
5.根据权利要求2所述的基板处理系统，其特征在于，该检测装置用以检测该喷洒装置是否完成对该基板喷洒液态物质的动作。
6.根据权利要求5所述的基板处理系统，其特征在于，当该喷洒装置完成对该基板喷洒液态物质的动作后，该检测装置控制该气体管路装置将该输送管路以及该喷洒装置中残余的物体喷出。
7.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，该喷洒装置还包含：一水喷洒器，用以对该基板喷洒水。
8.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，该喷洒装置还包含：一水喷洒器，用以自该基板的一侧朝该基板相对的另一侧移动以对该基板喷洒该水洗管路装置所控制而通入的水。
9.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，该喷洒装置还包含：一显影剂喷洒器，用以对该基板喷洒显影剂。
10.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，该喷洒装置还包含：一显影剂喷洒器，用以自该基板的一侧朝该基板相对的另一侧移动以对该基板喷洒显影剂。
11.一种显影方法，其特征在于，包含：
通过一喷洒装置对一基板喷洒显影剂；
通过一输送管路通入水至该喷洒装置；
通过该喷洒装置对该基板喷洒水；
在该喷洒装置对该基板喷洒水之后，通过该输送管路通入气体至该喷洒装置；以及
通过通入的气体将该输送管路以及该喷洒装置中残余的物体喷出。
12.根据权利要求11所述的显影方法，其特征在于，还包含：
检测该喷洒装置对该基板喷洒水之后所在位置；以及
根据检测结果通入气体至该喷洒装置。
13.根据权利要求11所述的显影方法，其特征在于，还包含：
检测该喷洒装置是否完成对该基板喷洒水的动作；以及
当该喷洒装置完成对该基板喷洒水的动作后，通入气体至该喷洒装置。
14.根据权利要求11所述的显影方法，其特征在于，对该基板喷洒显影剂的步骤还包含：
自该基板的一侧朝该基板相对的另一侧移动该喷洒装置以对该基板喷洒显影剂。
15.根据权利要求11所述的显影方法，其特征在于，对该基板喷洒水的步骤还包含：
自该基板的一侧朝该基板相对的另一侧移动该喷洒装置以对该基板喷洒水。
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