[发明专利]基板处理系统及显影方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种基板处理系统，且尤其涉及一种应用于微影工艺中的基板处理系统。

背景技术

一般在半导体或液晶显示器的基板进行微影工艺时，现有技术的作法是将基板上先显影的部分，对其先进行水洗的步骤，如此即可平衡基板上左右部分具有显影时间差的问题。

然而，由于机台是处于连续运作的状态，亦即，在生产的过程中，对基板的处理是一片接着一片的连续动作。因此，当以上述方法(即对先显影的部分先进行水洗)处理基板时，在基板进行显影步骤的过程中，水洗喷头中残余的水汽，可能会因为机台的运作而产生震动，造成漏出的情况，进而导致基板上有显影不良的问题发生。

发明内容

本发明的目的是在提供一种基板处理系统，借以解决基板上显影不良的问题。

本发明的另一目的是在提供一种显影方法，借以改善基板的显影工艺及其显影品质。

为实现上述目的，本发明的一技术样态是关于一种基板处理系统，其包含一水洗管路装置、一喷洒装置以及一气体管路装置。水洗管路装置用以控制水的通入。喷洒装置经由一输送管路连接水洗管路装置，并用以对基板喷洒液态物质。气体管路装置与水洗管路装置并联相接，且经由输送管路连接喷洒装置，并用以控制气体的通入，将输送管路以及喷洒装置中残余的物体喷出。

而且，为实现上述目的，本发明的另一技术样态是关于一种显影方法，其包含：通过一喷洒装置对一基板喷洒显影剂；通过一输送管路通入水至喷洒装置；通过喷洒装置对基板喷洒水；在喷洒装置对基板喷洒水之后，通过输送管路通入气体至喷洒装置；以及通过通入的气体将输送管路以及喷洒装置中残余的物体喷出。

根据本发明的技术内容，应用前述基板处理系统或显影方法，可解决产品在黄光工艺中因漏水所造成显影不良的问题，改善显影的质量，以提升产品的特性。

附图说明

图1为依照本发明的实施例绘示一种基板处理系统的示意图；

图2和图3为依照本发明的实施例绘示一种显影工艺中基板处理系统作动的示意图；

图4为依照本发明的实施例绘示一种显影方法的流程图。

其中，附图标记：

100：基板处理系统            102：水洗管路装置

104：气体管路装置            106：喷洒装置

108：输送管路                110：基板

112：控制阀                  116：水喷洒器

120：检测装置                126：显影剂喷洒器

402～412：步骤

具体实施方式

图1为依照本发明的实施例绘示一种基板处理系统的示意图。基板处理系统100包括水洗管路装置102、气体管路装置104、喷洒装置106以及输送管路108。其中，水洗管路装置102用以控制水(如：纯水或去离子水)的通入与否，喷洒装置106经由输送管路108与水洗管路装置102连接，并经由喷嘴对基板110喷洒液态物质(例如：去离子水或显影剂等)，而气体管路装置104则是与水洗管路装置102并联相接，且经由输送管路108与喷洒装置106连接，并用以控制气体(例如：干空气)的通入与否，通过通入的气体将输送管路108以及喷洒装置106中残余的物体(例如：残余水汽)喷出。在本实施例中，气体管路装置104可通过交换阀或控制阀112与水洗管路装置102并联相接，且气体管路装置104和水洗管路装置102均与输送管路108连接，而喷洒装置106为自基板110的一侧朝基板110相对的另一侧移动，而对基板110喷洒经水洗管路装置102通入的去离子水，或者对基板110喷洒显影剂。

此外，喷洒装置106可包含水喷洒器116，其用以自基板110的一侧朝基板110相对的另一侧移动，对基板110喷洒水洗管路装置102所控制而通入的纯水或去离子水(DI water)。另外，喷洒装置106中也可包括显影剂喷洒器126，其用以自基板110的一侧朝基板110相对的另一侧移动，对基板110喷洒显影剂。