[发明专利]一种剥釉古代琉璃构件施釉复烧技术无效
申请号: | 200910131501.2 | 申请日: | 2009-04-02 |
公开(公告)号: | CN101851119A | 公开(公告)日: | 2010-10-06 |
发明(设计)人: | 苗建民;王时伟;李合;康葆强;段鸿莺;赵兰;丁银忠;侯佳钰;窦一村;李媛 | 申请(专利权)人: | 故宫博物院 |
主分类号: | C04B41/86 | 分类号: | C04B41/86;C03C8/12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 古代 琉璃 构件 施釉复烧 技术 | ||
1.剥釉古代琉璃构件施釉复烧技术,其特征在于:首先制备一种琉璃釉用熔块,然后采用以胎料与釉用熔块相结合的方法制备釉底料生成釉与胎之间的过渡层。
2.根据权利要求1:剥釉古代琉璃构件施釉复烧技术,其特征在于:制备熔块及釉料:
1)首先按化学组成质量百分比将SiO2:41.5~45.0%、Al2O3:7.5~10.0%、TiO2:1.2~1.5%、CaO:0.5~1.5%、MgO:0.5~1.5%、K2O:1.5~3.0%、Na2O:2.0~4.0%、PbO:12.0~19.0%、BaO:5.0~8.3%、ZnO:3.0~5.0%、Li2O:1.0~2.0%和B2O3:8.0~14.5%进行混合研磨,后将混合料于高温炉中在1250℃熔化后水淬,再将水淬后的块料细磨至250目制备成釉用熔块备用;
2)按照质量百分比将90~95%熔块,0~5%的苏州土,5%左右的着色氧化物与占原料量60%的水、0.2%的Na5P3O10和0.2~0.8%的OPTAPIX KG6混合研磨至全部料浆通过250目筛,制成釉浆备用。
3.根据权利要求1:剥釉古代琉璃构件施釉复烧技术,其特征在于:制备釉底料及施釉复烧古琉璃构件
1)按照质量百分比将0~30.0%的坯料、0~10.0%的长石、0~10.0%的石英,70.0~80.0%的釉用熔块,0~5.0%的ZrSiO4,0~3.0%的SnO2,外加占原料量60%的水、0.2的Na5P3O10和0.2~0.5%的OPTAPIX KG6混合研磨至全部通过200目制成釉底料料浆,备用;
2)将打磨平整的古琉璃构件胎体表面灰尘除去、擦水后先施敷釉底料浆,施敷厚度0.2~0.3mm,后在1040~1100℃素烧,再施以琉璃釉在900~1000℃(低铅熔块釉)或830~950℃(生铅釉)烧成即可。
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