[发明专利]一种剥釉古代琉璃构件施釉复烧技术无效
申请号: | 200910131501.2 | 申请日: | 2009-04-02 |
公开(公告)号: | CN101851119A | 公开(公告)日: | 2010-10-06 |
发明(设计)人: | 苗建民;王时伟;李合;康葆强;段鸿莺;赵兰;丁银忠;侯佳钰;窦一村;李媛 | 申请(专利权)人: | 故宫博物院 |
主分类号: | C04B41/86 | 分类号: | C04B41/86;C03C8/12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 古代 琉璃 构件 施釉复烧 技术 | ||
技术领域
本发明涉及一种剥釉古琉璃构件的施釉复烧方法,具体涉及一种可用于剥釉古琉璃构件施釉复烧、仿古琉璃构件、建筑琉璃及低温釉陶等釉底料结合熔块釉的制备方法。
背景技术
传统的琉璃釉为高铅含量的生铅釉,釉中铅丹含量高达60~70%之多。铅釉热膨胀系数较大、难以与坯体形成很好的匹配关系,釉层表面布满了贯穿整个釉层的裂纹,致使坯体吸收环境中的水份,造成釉层的剥落。同时铅釉的物理性能较差、釉面硬度较小不耐磨;化学性能较差,易在使用中发生光泽变差、颜色改变等现象。根据“最小干预”的文物保护原则,在古建维修中,将剥釉严重的古代琉璃构件进行施釉重烧保护处理。在施釉重烧的过程中,为了改善坯体显气孔率等物理性能,通常的做法是对古代剥釉琉璃构件进行高温复烧,但在高温复烧时,胎体所具有的原始历史信息将不可避免地受到损失(苗建民、王时伟《紫禁城清代剥釉琉璃瓦件施釉重烧的研究》故宫学刊,2004,(1):472~488;苗建民等《清代剥釉琉璃瓦件施釉重烧的再研究》故宫博物院院刊,2008年(6):106~124)。同时,在施釉重烧过程中,经过打磨的胎面出现大量的小孔洞,影响复烧后琉璃构件的釉面质量。若以陶泥修补胎面,在短时期内会产生较好的釉面外观,但这种做法会因陶土与胎体结合性差在使用中更易产生剥釉缺陷。
为了解决生铅的毒性问题,人们开始了无铅琉璃釉或低铅熔块琉璃釉的探索。但现有技术存在的缺点是:(1)为了提高胎体的物理性能,复烧温度通常要高于胎体的始烧温度,其复烧结果将会造成胎体原有历史信息的改变;(2)高碱金属含量原料制备的低温釉,热膨胀系数较大,不适合用于膨胀系数较低的古琉璃构件胎体的复烧;(3)不合氧化铅的熔块釉,不仅烧成温度较高,而且光泽度较低,难以复仿古代高铅琉璃釉的光泽与质感。
发明内容:
本发明的目的在于克服上述现有技术的缺点,提供了一种釉底料与熔块面釉相结合的剥釉古代琉璃构件施釉复烧技术。该方法的特点是采用了既不同于化妆土(含较高熔剂成分,远低于胎体烧结温度),也不同于底釉(含较高胎质粘土成分)的釉底料技术,该釉底料既有较好的遮盖能力,也可以达到与坯体相似的外观质感效果;其烧结性能,热膨胀性能均介于胎和釉之间,在琉璃制品高膨胀的低温釉与低膨胀的难烧结胎体之间的各种性能方面,起一个缓冲过渡层的作用。另外,该釉底料的使用,可提高胎面致密度、平整度,且含有高于胎体的玻璃相,使釉的成熟温度因此而降低,烧成温度范围扩大。这一特点为使用无铅釉或低铅熔块釉在剥釉古代琉璃构件施釉重烧中的应用,创造了条件。该釉底料具有的化妆土作用,在仿古琉璃构件生产中,可使含铁量较高的劣质原料得以应用,降低了生产成本,有利于对有限自然资源的合理开发与使用。
为达到上述目的,本发明采用的技术方案是:
1)首先制备一种琉璃釉用熔块。采用少量生铅与多种碱金属和碱土金属氧化物或其可溶性盐类物质配料制备成低温釉用熔块,此熔快既可用于配制釉底料,也可以配制成仿古琉璃釉。
2)采用以胎料与釉用熔块相结合的方法制备釉底料生成釉与胎之间的过渡层,既能产生较好的结合性,也能缓冲胎釉之间的热膨胀系数、热应力匹配等问题,同时获得遮盖胎面缺陷、降低釉的烧成温度,扩大釉的成熟温度范围之目的,获得与生铅琉璃釉相近的色彩、光泽等质感效果。
该釉底料既可用于熔块釉也可用于生铅釉琉璃的生产,因其具有阻水性,故能够阻挡釉面裂纹造成的渗水现象。
下面结合实施实例对本发明作进一步详细说明。
实施例1
1)首先按化学组成质量百分比将将SiO2:45.0%、Al2O3:10.0%、TiO2:1.2%、CaO:1.5%、MgO:1.0%、K2O:2.9%、Na2O:4.0%、PbO:12.2%、BaO:8.3%、ZnO:3.9%、Li2O:2.0%和B2O3:8.0%进行混合研磨,后将混合料于高温炉中在1250℃熔化后水淬,再将水淬后的块料细磨至250目制备成釉用熔块备用;
2)按照质量百分比将90%熔块,5%的苏州土,5%的着色氧化物与占原料量60%的水、0.2%的Na5P3O10和0.5%的OPTAPIX KG6混合研磨至全部料浆过250目制成釉浆备用;
3)按照质量百分比将30.0%的坯料,70.0%的釉用熔块,外加占原料量60%的水、0.2%的Na5P3O10和0.5%的OPTAPIX KG6混合研磨至全部通过200目制成釉底料料浆,备用;
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