[发明专利]垂直磁记录介质和使用其的磁存储器有效
申请号: | 200910133880.9 | 申请日: | 2009-04-08 |
公开(公告)号: | CN101556803A | 公开(公告)日: | 2009-10-14 |
发明(设计)人: | 玉井一郎;棚桥究 | 申请(专利权)人: | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
主分类号: | G11B5/667 | 分类号: | G11B5/667;G11B5/65 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 李昕巍 |
地址: | 荷兰阿*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 垂直 记录 介质 使用 磁存储器 | ||
1.一种垂直磁记录介质,包括基板,该基板上至少顺序具有软磁层、非磁中间层、垂直记录层和保护层,其中所述垂直记录层由三层构成,所述三层从靠近所述基板一侧起包括第一记录层、第二记录层和第三记录层,所述第一记录层和所述第二记录层具有颗粒结构,其包括围绕包含Co和Pt的铁磁晶粒的氧化物晶粒边界,所述第三记录层具有非颗粒结构,主要包括Co且不包含氧化物,所述第一记录层的晶粒边界含有Si,Cr和氧以及选自Ti、Ta和Nb中的至少一种元素,所述第二记录层的晶粒边界包含Cr和氧,或者包含Cr和氧以及选自Si、W和V中的至少一种元素。
2.如权利要求1所述的垂直磁记录介质,其中所述第二记录层的厚度为0.2nm或更大且5nm或更小。
3.如权利要求1或2所述的垂直磁记录介质,其中所述第一记录层中包含的Cr的浓度超过4at.%且小于14at.%。
4.如权利要求1或2所述的垂直磁记录介质,其中所述第二记录层包含的氧化物的浓度超过10vol.%且低于30vol.%。
5.如权利要求3所述的垂直磁记录介质,其中所述第二记录层包含的氧化物的浓度超过10vol.%且低于30vol.%。
6.一种磁存储器,包括:
磁记录介质;用于沿记录方向驱动所述磁记录介质的装置;磁头,配置有记录部件和再现部件;用于相对于所述磁记录介质驱动所述磁头的装置;以及信号处理装置,用于磁头的输入信号和输出信号的波形处理,
其中所述磁记录介质是包括基板的垂直磁记录介质,在所述基板上至少顺序具有软磁层、非磁中间层、垂直记录层和保护层,所述垂直记录层由三层构成,所述三层从靠近所述基板一侧起包括第一记录层、第二记录层和第三记录层,所述第一记录层和所述第二记录层具有颗粒结构,其包括围绕包含Co和Pt的铁磁晶粒的氧化物晶粒边界,所述第三记录层具有非颗粒结构,主要包括Co且不包含氧化物,所述第一记录层的晶粒边界含有Si,Cr和氧以及选自Ti、Ta和Nb中的至少一种元素,所述第二记录层的晶粒边界包含Cr和氧,或者包含Cr和氧以及选自Si、W和V中的至少一种元素。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立环球储存科技荷兰有限公司,未经日立环球储存科技荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910133880.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于将鞋连接到滑雪设备上的装置
- 下一篇:电子元件载板的制作方法