[发明专利]垂直磁记录介质和使用其的磁存储器有效

专利信息
申请号: 200910133880.9 申请日: 2009-04-08
公开(公告)号: CN101556803A 公开(公告)日: 2009-10-14
发明(设计)人: 玉井一郎;棚桥究 申请(专利权)人: 日立环球储存科技荷兰有限公司
主分类号: G11B5/667 分类号: G11B5/667;G11B5/65
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 李昕巍
地址: 荷兰阿*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 垂直 记录 介质 使用 磁存储器
【说明书】:

技术领域

本发明涉及能实现大容量数据记录的磁记录介质和使用该磁记录介质的磁存储器。

背景技术

近年来,越来越需要增大硬盘驱动器的容量。此外,随着将硬盘驱动器安装于日常电器方面的进展,越来越强烈地需求硬盘驱动器的小型化和容量的增大。使用纵向记录系统的硬盘驱动器已实现了超过20Gb/cm2的记录面密度。然而,已难以使用该系统进一步增大记录密度。因此,现在使用垂直记录系统代替纵向记录系统。与纵向记录系统相比,在垂直记录系统中,高密度记录区域中反磁场(diamagnetic field)的影响很小,且认为垂直记录系统在增大记录密度方面有优势。

关于垂直记录系统中使用的垂直磁记录介质,已经检验了纵向记录介质中常规使用的包括CoCrPt合金的记录层。然而,为了进一步减小噪声,提出了包括添加氧或氧化物的CoCrPt合金的颗粒型记录层且吸引了公众的注意。颗粒型记录层公开于JP-A-2001-222809和JP-A-2003-178413中(这里使用的术语JP-A表示未审的已公开日本专利申请)。在包括CoCrPt合金的常规记录层的情况下,利用Co和Cr的相分离,通过晶粒边界中的主要包括Cr的非磁材料的偏析(segregation)来实现磁晶粒的磁隔离,且减小噪声。为了提高减小噪声的效果,需要大量添加Cr,但是在该情况下Cr也大量存在于磁晶粒中,从而存在磁各向异性能下降和记录信号稳定性变差的问题。而在添加氧或氧化物的CoCrPt合金颗粒型记录层的情况下,由于氧化物容易从磁晶粒分离,所以如果作为形成氧化物晶粒边界的引发物(cue)的模板形成为下层,则可以形成氧化物围绕磁晶粒的结构而没有添加大量Cr。由于磁晶粒中包含的Cr的量能被减小,所以可以减小噪声而不降低磁各向异性能。

在垂直记录系统中,沿垂直方向的记录和再现效率可通过具有设置于记录层与基板之间的软磁层的磁记录介质与单磁极头的组合而得到提高。作为单磁极头,存在具有在主磁极的拖尾侧设置屏蔽件这种结构的磁头(TS头)和具有屏蔽件设置得围绕主磁极这种结构的磁头(WAS头),以用于改善记录磁场梯度。尽管设置有这样的屏蔽件的磁头改善了记录磁场梯度,但是同时记录时的磁场强度降低,因此为了减小噪声而充分减小颗粒记录层中颗粒间相互作用的介质不能获得充分的覆写特性。因此,通过在颗粒记录层上形成厚的非颗粒结构铁磁层来实现覆写特性的改善(JP-A-2004-310910和JP-A-2006-351055)。

此外,还广泛检验了通过颗粒记录层的改善来降低噪声。作为这样的检验的示例,提出了用两种或更多氧化物来形成颗粒记录层的晶粒边界(JP-A-2005-100537和JP-A-2006-164440)。

专利文献1JP-A-2001-222809

专利文献2JP-A-2003-178413

专利文献3JP-A-2004-310910

专利文献4JP-A-2006-351055

专利文献5JP-A-2005-100537

专利文献6JP-A-2006-164440

发明内容

包括添加氧或氧化物的CoCrPt合金的颗粒型记录层在晶粒边界形成方面是良好的,可以说这样的记录层适于减小噪声。此外,通过在颗粒结构记录层上形成非颗粒结构记录层,即使在使用设置有屏蔽件的磁头时也能获得足够的覆写特性。然而,需要进一步改善以实现更高密度的记录。而且,由于担心磁头的道的窄化降低记录时的磁场强度,所以磁头与软磁层之间的距离需要缩短。在该情况下,如果不必要地过于薄化中间层,则记录层的结晶取向恶化且变得难以形成作为形成氧化物的晶粒边界的引发物的模板结构,从而增大噪声。因此,记录层和保护层的薄化也是重要的。

本发明的第一目的在于提供一种使用颗粒型记录层的垂直磁记录介质,其减小了噪声的产生且通过薄化记录层而能实现高密度记录。

本发明的第二目的在于提供一种最佳地利用该垂直磁记录介质的性能的磁存储器。

为了实现本发明的上述目的,层叠材料不同的三层或更多记录层,与中间层毗邻的颗粒记录层的氧化物是复合氧化物。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立环球储存科技荷兰有限公司,未经日立环球储存科技荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910133880.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top