[发明专利]具有水位控制装置的除污器装置

权利要求书

1.一种在流体槽(122、132、144)中用于水位控制的装置(164)， 其中，流体槽(122、132、144)被设计成容纳一定量的流体，其中该装 置(164)包含至少一条流体在其中流动的传输线路(182)，其中传输线 路具有至少一个控制开口(188)，所述的控制开口(188)液压连接到流 体槽(122、132、144)上，其中控制开口(188)被设计成，当流体槽 (122、132、144)中的至少一个最低水位(190)被超过时，至少基本 上防止流体流出传输线路(182)并进入流体槽(122、132、144)，并且 其中控制开口(188)进一步被设计成，当流体槽(122、132、144)中 的至少一个最低水位(190)未达到时，允许流体流出传输线路(182) 并进入流体槽(122、132、144)，其还包括至少一个用于从清洗液体中 去除杂质的处理装置(168)，其中该处理装置(168)连接到用于水位控 制的装置(164)上。

2.如权利要求1所述的装置(164)，其特征在于，传输线路(182) 具有至少一个控制部分(186)，所述的控制部分(186)被配置在流体槽 (122、132、144)或与流体槽(122、132、144)液压连接的控制槽内， 其中控制开口(188)配置在控制部分(186)上。

3.如权利要求2所述的装置(164)，其特征在于，传输线路(182) 至少在控制部分(186)部分水平地运行。

4.如权利要求2或3所述的装置(164)，其特征在于，控制开口(188) 配置在传输线路(182)的控制部分(186)的下表面上。

5.如权利要求1所述的装置(164)，其特征在于，控制开口(188) 被配置为机械地固定的开口，不具有移动部件。

6.如权利要求1所述的装置(164)，其还包括至少一个传输装置， 其中传输装置被设计成将流体传输出流体槽(122、132、144)并输送进 入传输线路(182)。

7.用于清洗至少一件清洗器皿的清洁装置(110)，包含至少一个用 于容纳清洗液体的流体槽(122、132、144)，并包含至少一个根据前述 权利要求之一所述的用来控制流体槽(122、132、144)中的水位的装置 (164)。

8.如权利要求7所述的清洁装置(110)，其特征在于，控制开口(188) 液压连接到流体槽(122、132、144)上，其中传输线路(182)连接到 另外的槽(122、132、144)或流出系统上。

9.如权利要求8所述的清洁装置(110)，其特征在于，清洁装置(110) 包含至少两个清洗区域(120、130、138、140、142)，其中清洁装置(110) 包含至少一个传送装置(112)用来沿传送方向(116)通过至少两个清 洗区域(120、130、138、140、142)传送清洗器皿，其中第一清洗区域 (120、130、138、140、142)具有相关的流体槽(122、132、144)，其 中清洁装置(110)被设计成将清洗液体传输出流体槽(122、132、144)， 并传送进入传输线路(182)，其中第二清洗区域(120、130、138、140、 142)具有相关的另外的槽(122、132、144)，所述的第二清洗区域(120、 130、138、140、142)沿输送方向(116)连接在上游。

10.如权利要求9所述的清洁装置(110)，其特征在于，所述处理 装置(168)具有至少一个用来带走清洁液体污染的部分的污物出口 (176)，并且具有至少一个用来带走清洁液体洁净的部分的洁净液体出 口(174)，其中污物出口(176)与传输线路(182)相连，并且其中洁 净液体出口(174)被配置成允许洁净的部分流入流体槽(122、132、144)。

11.如权利要求9或10所述的清洁装置(110)，其特征在于，处理 装置(168)具有至少一个用来供应待净化的清洗液体的供给管(172)， 其中供给管(172)连接到流体槽(122、132、144)上。