[发明专利]具有水位控制装置的除污器装置有效
申请号: | 200910137650.X | 申请日: | 2009-05-04 |
公开(公告)号: | CN101574250A | 公开(公告)日: | 2009-11-11 |
发明(设计)人: | 托马斯·罗德尔;约阿希姆·弗朗茨 | 申请(专利权)人: | 迈科机械制造有限及两合公司 |
主分类号: | A47L15/24 | 分类号: | A47L15/24;A47L15/42 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 | 代理人: | 楼高潮 |
地址: | 德国奥芬堡*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 水位 控制 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种用于流体槽中水位控制的装置和方法。尤其是,这 种装置和方法可用于清洗清洗器皿的清洁装置中。例如,该装置和方法 可用在用于盘子、容器或类似清洗器皿的洗碗机中,特别是用于商业用 途的洗碗机中。除了单室的洗碗机外,本发明也可以有利地用于多室的 洗碗机,例如在传送式洗碗机中。本发明特别优选地可以与从清洗液体 中去除杂质的处理装置协同使用。例如,一台这种处理装置可以包括用 于分离污物的装置,特别是使用离心力分离杂质的离心分离器。
背景技术
用于清洗清洗器皿的清洁装置在自然科学、工程学和医学技术的非 常广泛的领域中是已知的。在下文中特别参考了洗碗机,但是其他类型 的清洁装置,例如用于清洗医学设备和用于病人护理的物品的清洁装置、 用于清洗容器以及托盘的清洁装置或其他型式的清洁装置,也可以得益 于本发明的水位控制。通常,本发明也可以用于其它类型的流体系统中, 在所述的流体系统中流体槽中流体的水位控制是重要的。
清洗液体的处理,例如具有或不具有助剂(例如清洁剂、漂洗助剂 等等)的水的处理在许多清洁装置中起到重要作用。设计用来从清洗液 体中去除杂质、例如液体和固体杂质(例如悬浮颗粒)的处理装置经常 为这一目的而提供。作为对可以进行处理操作的过滤器的替代或补充, 离心分离的技术通常被用于处理清洗液体。这种基于离心分离器的除污 器通常也被称为“旋风分离器”。这种离心分离器可以特别方便地与洗碗 机协同使用,这点可从DE1965828A1、DE170361281、DE6602300U、 DE19836739A1或DE1250979A1中得知。在下文中,在离心分离器的改 进以及这种离心分离器的功能性原理方面参考了所有这些文献。离心分 离器被设计成使清洗液体成为净化漩涡,例如一个或多个漩涡的形式。 凭借这些漩涡,杂质由于其惯性而被分离。
如果洗碗机的槽,例如清洗槽,配备有(即连接到)这种处理装置, 特别是离心分离器,那么为了持续地或以特定循环净化清洗液体,对于 一部分数量的经过处理装置的清洗液体来说,通常有必要与分离出的污 物一起流出处理装置,例如作为回路的一部分。然而,这就降低了相关 的供应槽中清洗液体的水位。这一损失应当被持续补偿,使得清洗装置 保持运行能力。
水位补偿可以通过多种方式实现。例如,水位传感器可用于探测供 应槽中的水位是否降低到允许的量以下。如果属于这种情况,补充系统 可以进行运转。然而,这种方式增加了在设备上的支出。
在另一程序中,清洗液体流动,例如流出清洁装置的下游槽,流入 供应槽并补充填充水位,处理装置通过所述供应槽而供给。然而,如果 流入的水量由于操作或与方法相关的原因并不足够的话,用于清洗的循 环泵和/或通过处理装置的回路,举例来说,就必须被断开。这导致了这 样的缺点,就是在这种情况下,在清洗装置的相应部分中不再具有任何 清洗功能,或者是不对清洗液体的进行处理。
所述的程序另一个缺点在于,消耗的清洗液体的量的增加。例如, 为了保持清洗装置的功能而持续地补充水,会导致增水消耗量增加。尽 管实质上在如DE1250979A1所描述的装置的清洗过程中没有水的损失, 然而取得这样的优点的代价是在离心分离器的废水流出口处的污物收集 容器的额外的复杂程度,以及在所述污物收集容器的出口处设置附加的 截止阀。
总的来说,现有技术中已知的装置因此具有这样的缺点,也就是需 要在传感器系统上相当大量的额外支出以及附加装置,以控制供应槽内 的液体水位,如果提供了任何这样的控制,那么这就相当显著地增加了 清洁装置整体的花费和技术支出。这也导致了清洁装置故障率的增加。
发明目的
因此本发明的一个目的是提供一种用于流体槽中水位控制的装置, 这种装置应当能够被用于,特别地,具有处理装置的清洁装置中,并且 这种装置至少很大程度上避免了上文所述的现有技术的缺点。特别地, 应当在确保关于水位控制的高程度的工作可靠性的同时,确保在传感器 系统或其它装置上最小的支出。
发明内容
本发明的目的通过用于流体槽中水位控制的装置和方法来实现。所 述方法可以特别地使用根据本发明的装置而实施,并且因此可以参考装 置的改进,或清洁装置参考方法的可能的改进,反之亦然。
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