[发明专利]感应耦合等离子体处理装置无效

专利信息
申请号: 200910138681.7 申请日: 2009-05-14
公开(公告)号: CN101583234A 公开(公告)日: 2009-11-18
发明(设计)人: 齐藤均;佐藤亮 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H05H1/46 分类号: H05H1/46;H01L21/00;C23C16/50
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 代理人: 龙 淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 感应 耦合 等离子体 处理 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及对液晶显示装置(LCD)等的平板显示器(FPD)制造用的基板等的被处理体实施等离子体处理的感应耦合等离子体处理装置。

背景技术

在液晶显示装置(LCD)等的制造工序中,为了对玻璃基板实施规定的处理,使用等离子体蚀刻装置或等离子体CVD成膜装置等各种等离子体处理装置。作为这种等离子体处理装置,以前大多使用电容耦合等离子体处理装置,但是,最近具有能够得到高真空度、高密度的等离子体这种大优点的感应耦合等离子体(Inductively CoupledPlasma:ICP)处理装置受到关注。

感应耦合等离子体处理装置,在收容被处理体的处理容器的电介质窗的外侧配置高频天线,通过向处理容器内供给处理气体并且向该高频天线供给高频电力,使处理容器内产生感应耦合等离子体,通过该感应耦合等离子体对被处理体实施规定的等离子体处理。作为感应耦合等离子体处理装置的高频天线,大多使用形成平面状的规定图案的平面天线。

这样,在使用平面天线的感应耦合等离子体处理装置中,在处理容器内的平面天线正下方的空间内生成等离子体,这时,由于与天线正下方各个位置的电场强度成比例具有高等离子体密度区域和低等离子体密度区域的分布,所以平面天线的图案形状成为决定等离子体密度分布的重要因素。

但是,一台感应耦合等离子体处理装置应对应的应用不局限于一个,有必要和多个应用对应。这种情况下,为了在各个应用中进行均匀的处理,有必要改变等离子体密度分布。因此,为了使高密度区域和低密度区域的位置不同而准备多个不同形状的天线,对应于应用更换天线。

但是,对应于多个应用程序准备多个天线,针对每个不同的应用都进行更换需要耗费相当大的劳力,而且,最近由于LCD用的玻璃基板大型化,天线的制造费用也很高。另外,即使像这样准备多个天线,在所提供的应用中也未必是最合适的条件,必须根据加工条件的调整来对应。

对此,专利文献1中公开了,将螺旋形状的天线分成内侧部分和外侧部分两部分设置,在至少一方的天线部分设置可变电容器等阻抗调节单元,通过基于此的阻抗调节,控制上述两个天线部分的电流值,而控制在处理室内形成的感应耦合等离子体的密度分布的技术。

上述专利文献1的技术中,螺旋形状的天线的内侧部分和外侧部分的正下方,形成有与由天线形成的电场相对应的强度的等离子体,通过等离子体在水平方向的扩散,能够均匀地控制等离子体的密度分布。但是,在基板的一边的长度超过1米的大型化的情况下,这种扩散效果不能充分的发挥,因此容易反映出天线图案的疏、密的分布,所以等离子体分布有恶化的倾向。而且,如果像这样基板大型化,在天线配置区域电场强度分布产生差异,因此等离子体的分布就变得不均匀。

【专利文献1】特开2007-311182号公报

发明内容

本发明鉴于上述的情况而完成,本发明的目的是提供即使对于大型基板也能够得到均匀的等离子体分布的感应耦合等离子体处理装置。

为了解决上述课题,本发明提供一种感应耦合等离子体处理装置,其包括:收容被处理体实施等离子体处理的处理室;在上述处理室内载置被处理体的载置台;向上述处理室内供给处理气体的处理气体供给系统;对上述处理室内气体的排气系统;通过电介质部件配置在上述处理室的外部、具有通过供给高频电力在上述处理室内形成感应电场的设置为同心状的3个以上的天线部的高频天线;和调节包括上述各天线部的天线电路中至少一个的阻抗,由此控制上述天线部的电流值的阻抗调节单元,上述各个天线部,构成多个天线电缆配置为螺旋状的多重天线,并且,在其配置区域按照形成均匀的电场的方式设定其缠绕方法,在各天线部的配置区域之间,以能够实现电场均匀化的方式设定其缠绕数目。

在本发明中,被处理体形成矩形形状,上述天线部能够构成为按照形成大致矩形形状的方式配置天线电缆。在这种情况下,上述天线部,优选按照在大致矩形形状的各边的中央部比其他部分缠绕数目少的方式设定缠绕方法的形态。而且,上述高频天线,优选按照从内侧的天线部向外侧的天线部缠绕数目变少的方式设定各天线部的缠绕数目。

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