[发明专利]电路板结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200910138958.6 申请日: 2009-05-21
公开(公告)号: CN101896038A 公开(公告)日: 2010-11-24
发明(设计)人: 李孟翰;尚希贤 申请(专利权)人: 南亚电路板股份有限公司
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00;H05K3/42;H05K1/02;H05K1/11
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 姜燕;陈晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电路板 结构 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种电路板结构的制造方法,包括:

提供一板件,该板件具有一主体以及一第一导电层,该第一导电层形成于该主体的一表面;

在该第一导电层上形成一图案化第一电路层;

覆盖一绝缘层于该第一导电层上,将该图案化第一电路层内埋于该绝缘层中;

提供一第二导电层于该绝缘层上;

将该板件、该第一导电层、该图案化第一电路层、该绝缘层以及该第二导电层压合;

将该主体与该第一导电层分离;以及

将该第一导电层由该图案化第一电路层以及该绝缘层上去除,使该图案化第一电路层以及该绝缘层外露。

2.如权利要求1所述的电路板结构的制造方法,其中该图案化第一电路层是利用电镀的方式形成于该第一导电层上。

3.如权利要求1所述的电路板结构的制造方法,其中去除该第一导电层的方法是利用蚀刻技术。

4.如权利要求1所述的电路板结构的制造方法,其中该板件具有两个该第一导电层,分别形成于该板件的两侧,且该图案化第一电路层、该绝缘层、该第二导电层皆为两个,并分别形成于该板件的两侧。

5.如权利要求1所述的电路板结构的制造方法,还包括:

在该第二导电层以及该绝缘层中形成一过孔,该过孔暴露出该图案化第一电路层;以及

在该第二导电层上形成一图案化导电层,且该图案化导电层填充于该过孔中。

6.如权利要求5所述的电路板结构的制造方法,其中该过孔是通过机械钻孔或是激光钻孔所形成。

7.如权利要求5所述的电路板结构的制造方法,其中在该图案化导电层利用电镀的方式形成于该第二导电层上。

8.如权利要求5所述的电路板结构的制造方法,还包括:

将该图案化导电层的一电路图案之间的该第二导电层去除,使该图案化导电层以及该第二导电层形成一图案化第二电路层;以及

于该图案化第一电路层以及图案化该第二电路层上涂布一绿漆。

9.如权利要求8所述的电路板结构的制造方法,其中去除该第二导电层的方法是利用蚀刻技术。

10.如权利要求1所述的电路板结构的制造方法,还包括:

在该第二导电层上形成一图案化导电层;以及

在该绝缘层中形成一过孔,该过孔暴露出该第二导电层;以及

填充一导电材料于该过孔中。

11.如权利要求10所述的电路板结构的制造方法,其中该图案化导电层是利用电镀的方式形成于该第二导电层上。

12.如权利要求10所述的电路板结构的制造方法,其中该过孔是通过激光钻孔所形成。

13.如权利要求10所述的电路板结构的制造方法,其中该导电材料为铜。

14.如权利要求10所述的电路板结构的制造方法,还包括:

将该图案化导电层的一电路图案之间的该第二导电层去除,使该图案化导电层以及该第二导电层形成一图案化第二电路层;以及

于该图案化第一电路层以及该图案化第二电路层上涂布一绿漆。

15.如权利要求14所述的电路板结构的制造方法,其中去除该第二导电层的方法是利用蚀刻技术。

16.一种电路板结构,包括:

一绝缘层,具有一第一表面以及一第二表面;

一图案化第一电路层,内埋于该绝缘层中,并与该第一表面齐平;以及

一图案化第二电路层,设置于该第二表面上。

17.如权利要求16所述的电路板结构,还包括一过孔,形成于该绝缘层中,并且连通该图案化第一电路层以及该图案化第二电路层。

18.如权利要求17所述的电路板结构,还包括一导电材料,填充于该过孔中,电性连接该图案化第一电路层以及该图案化第二电路层。

19.如权利要求16所述的电路板结构,还包括一绿漆,涂布于该图案化第一电路层上。

20.如权利要求16所述的电路板结构,还包括一绿漆,涂布于该图案化第二电路层上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南亚电路板股份有限公司,未经南亚电路板股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910138958.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top