[发明专利]坐标检测设备的制造装置

说明书

相关申请的交叉引用 

本申请基于并要求2008年5月15日提交的日本专利申请No.2008-128140的优先权，该申请的全部内容通过引用结合在本申请中。 

技术领域

本发明涉及一种用于制造坐标检测设备的制造装置。 

背景技术

作为计算机系统的输入设备，例如触摸面板是已知的。触摸面板可以安装在显示设备上，可以检测显示设备上的坐标位置并得到与坐标位置相对应的检测信号。从而，触摸面板使得可以向计算机系统直接输入与坐标位置相对应的检测信号，从而可以进行容易和直观的输入。 

对于触摸面板，人们提出了电阻膜类型、光学类型和电容耦合类型等各种类型。在这样的触摸面板中，一般使用具有简单结构并且要求简单控制系统的电阻膜类型的触摸面板。电阻膜类型的触摸面板可以是4线型、5线型、8线型或很多其它类型以在电阻膜上配置电极。 

在这些类型中，5线型触摸面板没有可能是4线型触摸面板和8线型触摸面板的问题的涉及边缘滑动的问题。这是因为，在5线型触摸面板中，配置在操作面一侧的上基板的导电膜仅用于读取电位。因此，5线型触摸面板被用于要求严格的操作环境或长期耐用的市场。 

图9示出5线型电阻膜类型触摸面板的结构的例子。图9所示的5线型电阻膜类型触摸面板1包括上基板11和下基板12。在下基板12中，在玻璃基板21的整个区域上形成透明电阻膜22，在透明电阻膜22上形成X轴坐标检测电极23和24以及Y轴坐标检测电极25和26。在上基板11中，在膜基板31上形成透明电阻膜32，在透明电阻膜32上形成坐标检测电极33。 

在5线型电阻膜类型触摸面板1中，首先，在X轴坐标检测电极23和24之间施加电压。结果，沿着下基板12的透明电阻膜22的X轴方向X1-X2产生电位分布。然后，通过检测出下基板12的透明电阻膜22在上基板11与下基板12接触的位置处的电位，可以检测出上基板11与下基板12接触的位置的X坐标。接着，在Y轴坐标检测电极25和26之间施加电压。结果，沿着下基板12的透明电阻膜22的Y轴方向Y1-Y2产生电位分布。然后，通过检测出下基板12的透明电阻膜22在上基板11与下基板12接触的位置处的电位，可以检测出上基板11与下基板12接触的位置的Y坐标。 

此时，在这种类型的触摸面板中，存在如何使沿着下基板12的透明电阻膜22的X轴方向X1-X2和Y轴方向Y1-Y2中的每一个方向均匀地产生电位分布的问题。作为解决该问题的方法，日本公开专利申请No.10-83251(以下称为专利文献1)公开了一种在电阻膜的周围设置多级电位分布校正图案的方法。 

日本公开专利申请No.2001-125724(以下称为专利文献2)公开了一种设置包围输入面的周围的共用电极的方法。日本公开专利申请No.2007-25904(以下称为专利文献3)公开了一种在设置在透明电阻膜上的绝缘膜中形成开口部分并且从开口部分提供电位的方法。 

应注意的是，由于要求安装了坐标检测设备的装置的尺寸减小，因此会要求减小这样的坐标检测设备的尺寸。根据专利文献1中公开的坐标检测设备，由于如上所述在电阻膜的周围设置多级电位分布校正图案，因此难以减小坐标检测设备的尺寸。 

在专利文献2公开的方法中，如上所述设置包围输入面的周围的共用电极，除非透明电阻膜与图案电阻的电阻比增大，否则透明电阻膜的电位分布会变形。 

在专利文献3公开的方法中，在设置在透明电阻膜上的绝缘膜中 形成开口部分，尽管可以解决上述两个问题，但可能需要复杂的制造工艺。特别是，由于在制造中可能发生的材料或电阻值的可能偏差，产品性能的产出可能降低。 

发明内容

本发明考虑到上述问题而作出，本发明的目的在于提供一种能够以高的生产率制造具有减小的尺寸并且具有提高的坐标位置检测能力的坐标检测设备的制造装置。 

根据本发明，提供一种用于制造坐标检测设备的坐标检测设备的制造装置。该坐标检测设备具有形成在基板上的电阻膜和向该电阻膜施加电压的共用电极。在该坐标检测设备中，在电阻膜上产生电位分布，检测出所述电阻膜在与探头接触的位置处的电位，并且检测出所述电阻膜的该位置的坐标，该制造装置包括：激光光源，照射激光以除去所述电阻膜的一部分，形成电阻膜除去部分；光学系统，使激光会聚；多个探头，在经由所述共用电极向所述电阻膜施加了电压的状态下测量所述电阻膜的表面的电位；X-Y工作台，至少二维地使所述基板移动；以及控制部分，控制所述X-Y工作台和所述激光光源。