[发明专利]光刻装置和器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻装置，包括：

用于提供辐射投影光束的辐射系统；

用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对 投影光束进行构图；

用于保持基底的基底台；

用于将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统；

用于在所述投影系统最后元件和所述基底之间的空隙提供液体的液体 供给系统，

所述液体供给系统包括：

沿所述投影系统的最后元件与所述基底之间的空隙的边界的至少一部 分延伸的密封构件；和

用液流在所述密封构件和基底表面间形成密封的液体密封部件；

其中，环形的液体入口配置在所述密封构件边缘的外周边附近。

2.根据权利要求1所述的装置，所述密封构件或至少其下部是圆形的。

3.根据权利要求1所述的装置，其中，环形的液体出口配置在所述入 口的外侧。

4.根据权利要求1所述的装置，在所述液体入口内侧，一个或多个螺 旋形凹槽配置在所述密封构件的下表面上，当所述密封构件在顺时针方向 上旋转时，所述凹槽将起到倾向促进液体向所述密封构件中心运动的泵送 作用。

5.根据权利要求1所述的装置，还包括连接在所述密封构件和机械框 架间的部件，其用来支撑所述密封构件。

6.根据权利要求1所述的装置，所述液体密封部件是用于在所述基底 表面上方至少部分支撑所述密封构件的流体动力轴承。

7.根据权利要求1所述的装置，其中所述液体供给系统还包括一个低 压源，其防止了液体在径向向外方向上的泄漏，所述低压源位于所述密封 构件面向所述基底的表面上。

8.根据权利要求1所述的装置，其中所述液体供给系统以一压强向所 述空隙供给液体，该压强补偿相对于所述基底和所述密封构件间的相对运 动造成的从所述空隙中传送出的液体。

9.根据权利要求1所述的装置，其中所述液体供给系统还包括气体密 封部件，其定位于所述液体入口的径向外侧，以用于在所述密封构件和所 述基底表面间形成气体密封。

10.根据权利要求1所述的装置，其中所述密封构件上的至少一个入口 和/或出口具有倒圆的边缘。

11.根据权利要求5所述的装置，还包括至少一个形成在所述密封构件 上的在入口上游和/或出口下游的室。

12.根据权利要求6所述的装置，还包括：

至少一个传感器，用以确定所述密封构件的位置；和

一个控制系统，用于根据所述传感器确定的位置来控制至少一个致动 装置。

13.根据权利要求12所述的装置，其中在所述控制系统控制所述至少 一个致动装置以保持所述基底表面和所述密封构件间的所需距离的时候， 所述传感器确定所述基底表面和所述密封构件间的距离。

14.根据权利要求12或13所述的装置，其中所述控制系统控制所述至 少一个致动装置以至少部分地补偿在所述密封构件上的外力。

15.根据权利要求12所述的装置，其中所述控制系统布置成控制所述 至少一个致动装置以在所述流体动力轴承上施加预紧力。

16.根据权利要求12所述的装置，其中所述控制系统对所述密封构件 起阻尼作用。