[发明专利]印刷机中的辊调整方法和印刷机的润湿装置有效
申请号: | 200910141833.9 | 申请日: | 2009-05-26 |
公开(公告)号: | CN101590713A | 公开(公告)日: | 2009-12-02 |
发明(设计)人: | P·海勒尔;M·明斯特尔 | 申请(专利权)人: | 海德堡印刷机械股份公司 |
主分类号: | B41F7/40 | 分类号: | B41F7/40 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 曾 立 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 印刷机 中的 调整 方法 润湿 装置 | ||
技术领域
本发明涉及印刷机中的辊调整方法和印刷机的适合于执行该方法的润 湿装置。
背景技术
印刷机的润湿装置通常包括多个辊,这些辊在压力下彼此靠触。由于 压力,这些辊在轴向上弯曲。辊的弯曲又导致沿着辊间隙的不均匀的润湿 介质计量。为了克服这个不期望的效应公开了不同的应对措施,即一个辊 绕其他辊的所谓缠绕和一个辊相对于其他辊的所谓偏斜
在德国公开文献DE-OS 2054678中描述了所述缠绕。在该公开文献中 描述的润湿装置中,计量辊支承在杠杆中,这些杠杆被设置得可绕一个浸 渍辊的旋转轴线摆动。由于这些杠杆之一的摆动,计量辊的辊端部沿着一 个圆弧形的运动线摆动并且计量辊以微小的程度螺旋线状地绕该浸渍辊缠 绕。
在DE 102005015791中描述了所述偏斜。在该文献中描述的润湿装置 中,待偏斜的辊的两个辊端部彼此相反地沿着一个直线移位。由于该移位, 偏斜的辊的几何旋转轴线相对于相邻辊的几何旋转轴线歪斜地定向,偏斜 的辊靠触在所述相邻辊上。
在这两个前述文献的每一个中,待缠绕或待偏斜的辊仅仅靠触在一个 辊上。在这两个文献中仅描述了如下的应对措施:即仅仅克服了由计量辊 与浸渍辊形成的辊间隙中的辊弯曲,而没有克服其他辊中的辊弯曲。
在此不利的是,没有考虑在着水辊(Auftragswalze)与其相应的相邻辊 共同形成的辊间隙中起作用的辊弯曲。在现有技术中还没有认识到的是: 在该辊间隙中起作用的辊弯曲对于印版润湿的均匀性也具有重大影响。
发明内容
本发明的任务在于,给出一种印刷机中的改善的辊调整方法和一种适 合于执行该方法的润湿装置。本发明的任务特别是在于,提出一种印刷机 中的辊调整方法,通过该方法可实现印版的非常均匀的润湿,以及提出一 种适合于执行该方法的润湿装置。
该任务通过具有本发明特征的方法和具有本发明特征的润湿装置来解 决。
根据本发明,提出了一种印刷机中的辊调整方法,该印刷机包括一个 第一辊、一个第二辊和一个第三辊,其中,第二辊不仅靠触在第一辊上而 且靠触在第三辊上并且相对于该第三辊在轴向上不平行地定向,其中,该 第一辊移位到一个位置中,在该位置中该第一辊相对于第三辊在轴向上不 平行地定向。
根据本发明,还提出了一种印刷机的润湿装置,其特别是用于执行本 发明的方法,该润湿装置包括一个第一辊、一个第二辊和一个第三辊,其 中,该第二辊不仅靠触在第一辊上而且靠触在第三辊上并且相对于该第三 辊在轴向上不平行地定向。
在本发明的方法中,不仅第一辊的辊弯曲而且第二辊的辊弯曲都被补 偿。由此,不仅在由第一辊与第二辊共同形成的辊间隙中由第一辊传递给 第二辊的液体膜而且在由第二辊与第三辊共同形成的辊间隙中由第二辊传 递给第三辊的液体膜在轴向方向上或在印刷宽度上均匀化。
在其他描述中阐述了本发明方法的各种进一步构型。在一个进一步构 型中,在第一辊移位时仅仅是该第一辊的另个端部之一移位。在另一进一 步构型中,第一辊的在第一辊移位时移位的端部在该移位时沿着一个圆弧 运动。在另一进一步构型中,在第一辊移位时该第一辊在轴向上螺旋线状 地绕第二辊盘绕运动。即该第一辊绕第二辊缠绕。在另一进一步构型中, 第二辊相对于第三辊在轴向上歪斜地定向。即第二辊偏斜。第二辊相对于 第三辊的歪斜位置可在其尺寸上改变。取而代之的也可以是:第二辊相对 于第三辊偏斜的程度是可调节的。
印刷机的按照本发明的润湿装置包括一个第一辊、一个第二辊和一个 第三辊,其中,该第二辊不仅靠触在第一辊上而且靠触在第三辊上并且相 对于该第三辊在轴向上不平行地定向。
本发明润湿装置的特点在于,在轴向上不平行地定向的第二辊是一个 中间辊,该中间辊不仅靠触在唯一一个相邻辊上,而且靠触在两个相邻辊 上。本发明的润湿装置提供用于执行本发明方法的结构前提。
本发明润湿装置的各种进一步构型都是可能的。在本发明润湿装置的 一个进一步构型中,第二辊相对于第三辊在轴向上倾斜地定向。在此,第 二辊相对于第三辊偏斜。在另一进一步构型中,第一辊是从水斗中汲取润 湿介质的浸渍辊。在另一进一步构型中,第三辊是靠触在印版滚筒上的着 水辊。从下面的实施例说明和附图中得出本发明方法和本发明润湿装置的 其他结构和功能上有利的进一步构型。
附图说明
附图中表示:
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