[发明专利]降低研磨或混合后粉末杂质含量的方法及其所制成的胚料无效
申请号: | 200910143019.0 | 申请日: | 2009-05-22 |
公开(公告)号: | CN101890386A | 公开(公告)日: | 2010-11-24 |
发明(设计)人: | 陈琨明;薛永浚 | 申请(专利权)人: | 光洋应用材料科技股份有限公司 |
主分类号: | B02C17/00 | 分类号: | B02C17/00;B02C17/20;B01F3/18;B22F1/00 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 降低 研磨 混合 粉末 杂质 含量 方法 及其 制成 | ||
1.一种降低研磨或混合后粉末杂质含量的方法,其特征在于其包括以下步骤:
将由预研磨粉末的至少一成份所组成的粉末放入具有多个磨球的研磨机中研磨至少一小时,以使各磨球表面形成一粉末层;
将所述具有粉末层的磨球取出,并用以研磨或混合该预研磨粉末。
2.根据权利要求1所述的降低研磨或混合后粉末杂质含量的方法,其特征在于其中粉末放入具有多个磨球的研磨机中研磨至少两小时。
3.根据权利要求1所述的降低研磨或混合后粉末杂质含量的方法,其特征在于其中粉末放入具有多个磨球的研磨机中研磨至少三小时。
4.根据权利要求1至3中任一权利要求所述的降低研磨或混合后粉末杂质含量的方法,其特征在于其中所述的磨球的材质是不锈钢、碳化钨或氧化铝。
5.根据权利要求1至3中任一权利要求所述的降低研磨或混合后粉末杂质含量的方法,其特征在于其中将具有粉末层的磨球研磨或混合该预研磨粉末之后还包括进一步使用所述预研磨粉末形成一胚料。
6.根据权利要求4所述的降低研磨或混合后粉末杂质含量的方法,其特征在于其中将具有粉末层的磨球研磨或混合该预研磨粉末之后还包括进一步使用所述预研磨粉末形成一胚料。
7.一种胚料,其特征在于其是利用如权利要求5或6所述的方法制成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于光洋应用材料科技股份有限公司,未经光洋应用材料科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910143019.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。