[发明专利]静电放电箝制电路有效

专利信息
申请号: 200910147052.0 申请日: 2009-06-08
公开(公告)号: CN101908759A 公开(公告)日: 2010-12-08
发明(设计)人: 梁咏智;叶致廷;陈世宏 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: H02H9/02 分类号: H02H9/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 静电 放电 箝制 电路
【权利要求书】:

1.一种静电放电箝制电路,其特征在于该静电放电箝制电路包括:

第一电阻,该第一电阻的第一端点耦接至第一轨线;

第二电阻,该第二电阻的第二端点耦接至第二轨线;

第一晶体管,该第一晶体管的控制端点耦接至该第二电阻的第一端点,该第一晶体管的第一端点耦接至该第一电阻的第二端点,该第一晶体管的第二端点耦接至该第二轨线;

第二晶体管,该第二晶体管的控制端点耦接至该第一电阻的第二端点,该第二晶体管的第一端点耦接至该第一轨线,该第二晶体管的第二端点耦接至该第二电阻的第一端点;以及

第三晶体管,该第三晶体管的控制端点耦接至该第二电阻的第一端点,该第三晶体管的第一端点耦接至该第一轨线,该第三晶体管的第二端点耦接至该第二轨线。

2.如权利要求1所述的静电放电箝制电路,其特征在于该第一晶体管为NMOS晶体管,该第二晶体管为PMOS晶体管,该第三晶体管为NMOS晶体管。

3.如权利要求1所述的静电放电箝制电路,其特征在于该第一晶体管为PMOS晶体管,该第二晶体管为NMOS晶体管,该第三晶体管为PMOS晶体管。

4.如权利要求1所述的静电放电箝制电路,其特征在于该第三晶体管为大尺寸的场效应晶体管。

5.如权利要求1所述的静电放电箝制电路,其特征在于该静电放电箝制电路还包括:

第四晶体管,该第四晶体管的控制端点耦接至该第一电阻的第二端点,该第四晶体管的第一端点耦接至该第一轨线,该第四晶体管的第二端点耦接至该第二轨线。

6.如权利要求5所述的静电放电箝制电路,其特征在于该第一晶体管为NMOS晶体管,该第二晶体管为PMOS晶体管,该第三晶体管为NMOS晶体管,该第四晶体管为PMOS晶体管。

7.如权利要求5所述的静电放电箝制电路,其特征在于该第三晶体管与该第四晶体管为大尺寸的场效应晶体管。

8.如权利要求5所述的静电放电箝制电路,其特征在于该静电放电箝制电路还包括:

第一二极管单元,耦接于该第一电阻的第二端点与该第一晶体管的第一端点之间。

9.如权利要求8所述的静电放电箝制电路,其特征在于该第一二极管单元包括多个二极管相互串接而成第一二极管串,其中该第一二极管串的二端分别耦接至该第一晶体管的第一端点与该第一电阻的第二端点。

10.如权利要求9所述的静电放电箝制电路,其特征在于这些二极管是以晶体管实现。

11.如权利要求8所述的静电放电箝制电路,其特征在于该静电放电箝制电路还包括:

第二二极管单元,耦接于该第二晶体管的第二端点与该第二电阻的第一端点之间。

12.如权利要求5所述的静电放电箝制电路,其特征在于该静电放电箝制电路还包括:

第二二极管单元,耦接于该第二晶体管的第二端点与该第二电阻的第一端点之间。

13.如权利要求12所述的静电放电箝制电路,其特征在于该第二二极管单元包括多个二极管相互串接而成第二二极管串,其中该第二二极管串的二端分别耦接至该第二晶体管的第二端点与该第二电阻的第一端点。

14.如权利要求13所述的静电放电箝制电路,其特征在于这些二极管是以晶体管实现。

15.如权利要求1所述的静电放电箝制电路,其特征在于该静电放电箝制电路还包括:

第一二极管单元,耦接于该第一电阻的第二端点与该第一晶体管的第一端点之间。

16.如权利要求15所述的静电放电箝制电路,其特征在于该第一二极管单元包括多个二极管相互串接而成第一二极管串,其中该第一二极管串的二端分别耦接至该第一晶体管的第一端点与该第一电阻的第二端点。

17.如权利要求16所述的静电放电箝制电路,其特征在于这些二极管是以晶体管实现。

18.如权利要求15所述的静电放电箝制电路,其特征在于该静电放电箝制电路还包括:

第二二极管单元,耦接于该第二晶体管的第二端点与该第二电阻的第一端点之间。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于财团法人工业技术研究院,未经财团法人工业技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910147052.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top