[发明专利]半导体装置以及电子设备有效

专利信息
申请号: 200910149637.6 申请日: 2009-06-17
公开(公告)号: CN101615620A 公开(公告)日: 2009-12-30
发明(设计)人: 福冈修;早川昌彦;肉户英明 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L27/142 分类号: H01L27/142;H01L29/36;H01L23/52
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 屠长存
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 半导体 装置 以及 电子设备
【权利要求书】:

1.一种半导体装置,包括:

半导体区域;

第一电极;

第二电极;

电连接到所述第一电极的第一端子;

电连接到所述第二电极的第二端子;以及

功能电路,

其中所述第一端子设置在所述半导体区域上,

所述半导体区域包括:

具有n型和p型中的一种导电型的第一杂质区域;

在平面图中设置在所述第一杂质区域的内周部的电阻区 域;以及

在所述平面图中设置在所述电阻区域的内周部的具有n型 和p型中的另一种导电型的第二杂质区域,

所述第一杂质区域电连接到所述第一电极,

所述第二杂质区域电连接到所述第二电极,并且

所述功能电路的第一端子电连接到所述第一电极,所述功能电路 的第二端子电连接到所述第二电极。

2.一种半导体装置,包括:

半导体区域;

第一电极;

第二电极;

电连接到所述第一电极的第一端子;

电连接到所述第二电极的第二端子;以及

功能电路,

其中所述第二端子设置在所述半导体区域上,

所述半导体区域包括:

具有n型和p型中的一种导电型的第一杂质区域;

在平面图中设置在所述第一杂质区域的内周部的电阻区 域;以及

在所述平面图中设置在所述电阻区域的内周部的具有n型 和p型中的另一种导电型的第二杂质区域,

所述第一杂质区域电连接到所述第一电极,

所述第二杂质区域电连接到所述第二电极,并且

所述功能电路的第一端子电连接到所述第一电极,所述功能电路 的第二端子电连接到所述第二电极。

3.根据权利要求1或2所述的半导体装置,其中所述功能电路包 括光电转换元件和放大电路。

4.根据权利要求1或2所述的半导体装置,

其中设置有所述功能电路和所述第一电极的多个连接部,

设置有所述功能电路和所述第二电极的多个连接部,

所述功能电路和所述第一电极的所述多个连接部具有均一的电 阻值,

并且所述功能电路和所述第二电极的所述多个连接部具有均一 的电阻值。

5.根据权利要求4所述的半导体装置,其中所述功能电路包括光 电转换元件和放大电路。

6.根据权利要求1或2所述的半导体装置,

其中设置有所述第一杂质区域和所述第一电极的多个连接部,

设置有所述第二杂质区域和所述第二电极的多个连接部,

所述第一杂质区域和所述第一电极的所述多个连接部具有均一 的电阻值,

并且所述第二杂质区域和所述第二电极的所述多个连接部具有 均一的电阻值。

7.根据权利要求1或2所述的半导体装置,其中所述电阻区域的 电阻值高于所述第一杂质区域和所述第二杂质区域的电阻值。

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