[发明专利]借助“像素偏移”生成分辨率提高的三维对象的方法有效

专利信息
申请号: 200910150531.8 申请日: 2005-05-09
公开(公告)号: CN101628477A 公开(公告)日: 2010-01-20
发明(设计)人: 亚历山大·什科林尼克;亨德里克·约翰;阿里·埃尔-斯博兰尼 申请(专利权)人: 想象科技有限公司
主分类号: B29C67/00 分类号: B29C67/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 赵 科
地址: 德国格*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 借助 像素 偏移 生成 分辨率 提高 三维 对象 方法
【权利要求书】:

1.一种用于生成位图数据的方法,所述位图数据用于引导借助 于掩模曝光的电磁辐射的投影,所述方法包括:

用矢量线来表示对象横截面的外轮廓和内轮廓;

通过以下方式为XY平面中的亚像素偏移生成位图:

以XY平面中亚像素范围中的相应偏移来变换矢量线的XY 坐标,

将偏移后的矢量线设置在位图光栅上,并且

为XY平面中的偏移计算有效像素的新分布。

2.根据权利要求1所述的方法,其中XY平面中的亚像素偏移 是相对于表示内轮廓和外轮廓的矢量线的偏移量ΔX。

3.根据权利要求1所述的方法,其中XY平面中的亚像素偏移 是相对于表示内轮廓和外轮廓的矢量线的偏移量ΔY。

4.根据权利要求1所述的方法,其中XY平面中的亚像素偏移 是相对于表示内轮廓和外轮廓的矢量线的偏移量ΔX和偏移量ΔY。

5.根据权利要求1所述的方法,还包括通过投影掩模内的灰度 级改变每个像素的投影的光功率。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于想象科技有限公司,未经想象科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910150531.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top