[发明专利]借助“像素偏移”生成分辨率提高的三维对象的方法有效
申请号: | 200910150531.8 | 申请日: | 2005-05-09 |
公开(公告)号: | CN101628477A | 公开(公告)日: | 2010-01-20 |
发明(设计)人: | 亚历山大·什科林尼克;亨德里克·约翰;阿里·埃尔-斯博兰尼 | 申请(专利权)人: | 想象科技有限公司 |
主分类号: | B29C67/00 | 分类号: | B29C67/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 赵 科 |
地址: | 德国格*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 借助 像素 偏移 生成 分辨率 提高 三维 对象 方法 | ||
1.一种用于生成位图数据的方法,所述位图数据用于引导借助 于掩模曝光的电磁辐射的投影,所述方法包括:
用矢量线来表示对象横截面的外轮廓和内轮廓;
通过以下方式为XY平面中的亚像素偏移生成位图:
以XY平面中亚像素范围中的相应偏移来变换矢量线的XY 坐标,
将偏移后的矢量线设置在位图光栅上,并且
为XY平面中的偏移计算有效像素的新分布。
2.根据权利要求1所述的方法,其中XY平面中的亚像素偏移 是相对于表示内轮廓和外轮廓的矢量线的偏移量ΔX。
3.根据权利要求1所述的方法,其中XY平面中的亚像素偏移 是相对于表示内轮廓和外轮廓的矢量线的偏移量ΔY。
4.根据权利要求1所述的方法,其中XY平面中的亚像素偏移 是相对于表示内轮廓和外轮廓的矢量线的偏移量ΔX和偏移量ΔY。
5.根据权利要求1所述的方法,还包括通过投影掩模内的灰度 级改变每个像素的投影的光功率。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于想象科技有限公司,未经想象科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910150531.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:触发开关用的调整装置
- 下一篇:制造超高流动性尿烷基球形细粉的装置和方法