[发明专利]借助“像素偏移”生成分辨率提高的三维对象的方法有效
申请号: | 200910150531.8 | 申请日: | 2005-05-09 |
公开(公告)号: | CN101628477A | 公开(公告)日: | 2010-01-20 |
发明(设计)人: | 亚历山大·什科林尼克;亨德里克·约翰;阿里·埃尔-斯博兰尼 | 申请(专利权)人: | 想象科技有限公司 |
主分类号: | B29C67/00 | 分类号: | B29C67/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 赵 科 |
地址: | 德国格*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 借助 像素 偏移 生成 分辨率 提高 三维 对象 方法 | ||
本申请是申请日为2005年5月9日、申请号为200580014918.0 (PCT/EP2005/005003)、发明名称为“借助“像素偏移”生成分辨率 提高的三维对象的方法”的专利申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及借助具有恒定分辨率的光栅化成像单元通过用掩模 曝光来逐层固化(Verfestigung)光电硬化(photohaertend)材料以 制造三维对象的方法和装置,其中图像面/构造面中的分辨率应当在亚 像素范围中得到改善。
背景技术
为了逐层构造由“光硬化(lichthaertend)”材料构成的三维对象, 在文献中给出了极为不同的方法,为此参见Marshall Burns的 “Automated Fabrication-Improving Productivity in Manufacturing”, 1993(ISBN 0-13-119462-3)。
该发明涉及这样的方法,在该方法中,要制造的层基于借助于光 栅化掩模的曝光,其中掩模中的最小物理分辨率通过像素的尺寸来给 定。
目前公知的途径可以是通过下列装置进行的曝光:
a)投影单元(基于LCD,等等)
b)LC显示器(反射的,透射的)
c)LED或激光二极管行/阵列(其在层上的XY平面内移动)
d)基于MEM技术(光阀)的行或阵列(其在层上的XY平面 内移动)
其中一些方法被描述在以下专利中:
Dicon AS(DK)的IPC:B29C67/00“Rapid Prototyping apparatus and method of Rapid Prototyping”(申请);
Texas Instruments Inc.的美国专利US005247180A “Stereolithographic Apparatus and Method of use”,1993年9月;
SRI International的美国专利US005980813A“Rapid Prototyping using multiple materials”,1999年11月;
Forschungszentrum Informatik an derKarlsruhe的 实用新型DE G 9319405.6“Vorrichtung zur Herstellung eines dreidimensionalen Objects(Modells)nach dem Prinzip der Photoverfestigung”,1993年12月;
在DeltaMed等人的实用新型DE 29911122U1“Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes”,1999年7月中描述 了对根据类似方法产生显微技术三维组件的应用。
Envision Technologies GmbH的PCT专利申请02008019.8 “Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes”, 2002年4月。
在US 6,180,050中描述了一种用于在制造三维组件时逐层固化 的线性扫描技术。通过在X方向上扫描具有在Y方向上相互交错的光 纤阵列的曝光头,提高分辨率。
在上述所有方法中,待硬化的材料层的分辨率直接取决于成像方 法的分辨率。
此外,在投影方法中,中间连接的光学系统确定投影层或待硬化 层的比例。
因此,图像面/构造面中每个面积单位的分辨率取决于a)成像单 元的分辨率或最小元素、即所谓的像素及其相互之间的相对距离、即 所谓的像素间距以及b)投影比例。
因此,通过体素(体积像素)的最小体积单元来确定组件的表面 粗糙度,其中体素的尺寸由投影在XY平面上的像素面积和Z方向上 的层厚组成。
由执行器在Z方向上的最小分辨率(步长大小)来预先给定层厚 的分辨率,以便移动载体平台。这里,分辨率已经可以达到直至一位 数μm的范围。如果要实现组件的低表面粗糙度,必须减小投影场并 因此随之减小像素面积。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于想象科技有限公司,未经想象科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910150531.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:触发开关用的调整装置
- 下一篇:制造超高流动性尿烷基球形细粉的装置和方法