[发明专利]掺Bi碱土硼酸盐晶体及其制备方法和应用有效
申请号: | 200910151678.9 | 申请日: | 2009-07-16 |
公开(公告)号: | CN101705518A | 公开(公告)日: | 2010-05-12 |
发明(设计)人: | 苏良碧;徐军;李红军;周朋;喻军 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
主分类号: | C30B29/22 | 分类号: | C30B29/22;C30B15/00;C30B33/04 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 许亦琳;余明伟 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | bi 碱土 硼酸盐 晶体 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种掺Bi碱土硼酸盐晶体,所述掺Bi碱土硼酸盐晶体中的碱土金属为Ca或Sr或 Ba,Bi离子掺杂浓度为0.1at%~6.0at%,其特征在于,掺入Bi离子的同时掺入Y3+或La3+或Zr4+或Si4+,掺入Y3+或La3+或Zr4+或Si4+的比例为Bi离子浓度的0.1~4.5倍。
2.如权利要求1所述的掺Bi碱土硼酸盐晶体,其特征在于,所述的Bi离子掺杂浓度 为0.1at%~5.0at%。
3.如权利要求2所述的掺Bi碱土硼酸盐晶体,其特征在于,所述的Bi离子掺杂浓度 为0.5at%~3.0at%。
4.如权利要求1-3中任一权利要求所述掺Bi碱土硼酸盐晶体的生长方法,为采用熔 体法生长,所述熔体法选自:坩埚下降法、提拉法或泡生法,晶体生长气氛采用惰性或弱 还原性气体。
5.如权利要求4所述的掺Bi碱土硼酸盐晶体的生长方法,其特征在于,所述采用熔 体法生长晶体完毕后,还需要采用高能电磁波对生长获得的掺Bi碱土硼酸盐晶体进行辐照。
6.如权利要求5所述的掺Bi碱土硼酸盐晶体的生长方法,其特征在于,所述高能电 磁波选自X射线或γ射线,所述辐照过程中,辐照剂量范围为1KGy~100KGy,剂量率为 50Gy/h~500Gy/h。
7.如权利要求6所述的掺Bi碱土硼酸盐晶体的生长方法,其特征在于,所述X射线 为波长为0.01nm~0.1nm、能量为10KeV~100KeV的硬X射线;所述γ射线为60Coγ作为 辐照源所产生的γ射线。
8.权利要求1-3中任一权利要求所述的掺Bi碱土硼酸盐晶体在脉冲激光器、波长可 调谐激光器或超短脉冲激光器中的应用。
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