[发明专利]薄膜晶体管显示面板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200910162626.1 申请日: 2009-08-14
公开(公告)号: CN101650505A 公开(公告)日: 2010-02-17
发明(设计)人: 宋俊昊;金雄权 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1368;G03F7/00;H01L21/84
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 张 波
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 薄膜晶体管 显示 面板 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及薄膜晶体管显示面板及其制造方法,更具体地,涉及能够减 少或有效防止由布线(wiring line)之间的厚度差引起的图像质量退化来改 善显示质量的薄膜晶体管显示面板及其制造方法。

背景技术

随着信息技术的进步,存在对更大且更薄的显示装置的不断需求。然而, 传统的阴极射线管(CRT)显示器不能满足该需求。因此,对平板显示装置 (诸如PDP(等离子体显示面板)、PLAC(等离子体寻址液晶显示面板)、 LCD(液晶显示器)和OLED(有机发光二极管))有较大的需求。具体地, 能够在各种电子设备中显示高分辨度图像的较轻且较薄的显示装置已经被 广泛地使用。

LCD是一种典型的平板显示器(FPD),并可以包括其上形成有电极的 两个显示面板和插设在这两个显示面板之间的液晶层。在LCD中,电压施 加到电极以重新排列液晶层中的液晶分子,从而调整通过液晶层的光的量。 这样,LCD显示图像。

每个显示面板可以通过在绝缘基板上形成多个薄膜图案而形成。

发明内容

由于显示面板可以通过在绝缘基板上形成多个薄膜图案而制造,所以在 制造工艺中会存在缺点。例如,薄膜图案可以通过光刻工艺形成,该光刻工 艺包括光致抗蚀剂涂布工艺、掩模布置工艺、曝光工艺、烘烤工艺(baking process)、显影工艺和/或清洗工艺。整个制造时间和成本受到每步工艺影响。 因此,当工艺的数目相对的大时,制造时间和成本增加,而当工艺的数目减 少时,制造成本可以被有利地减少。

然而,尽管已经发展了用于减少掩模工艺数目的技术以便减少制造成 本,但在制造显示面板中仍存在技术挑战。例如,在减少掩模工艺的数目时 需要将每个组件形成为最优的形状。

本发明的示范性实施例提供了一种能够减少或有效防止由布线之间的 厚度差引起的图像质量退化的薄膜晶体管显示面板,以改善显示质量。

本发明的示范性实施例提供了一种制造能够减少或有效防止由布线之 间的厚度差引起的图像质量退化的薄膜晶体管显示面板的方法,以改善显示 质量。

示范性实施例提供了一种薄膜晶体管显示面板,该薄膜晶体管显示面板 包括:绝缘基板;栅极线和数据线,以网格形状设置在绝缘基板上以使彼此 电绝缘;公共线,设置在绝缘基板上并平行于栅极线;栅极绝缘膜,设置在 栅极线和公共线上;接触孔,穿过对应于公共线设置的栅极绝缘膜;多个公 共电极,通过接触孔电连接到公共线并彼此平行地布置;以及多个像素电极, 平行于公共电极布置。公共电极和像素电极的厚度小于数据线的厚度。

公共电极和像素电极的每个可以以单层结构形成,数据线可以以多层结 构形成。

公共电极和像素电极可以包括铜,数据线可以包括上层和下层,其中该 上层包括铜(Cu)和钼(Mo)的至少之一,该下层包括钼(Mo)、钛(Ti)、 铬(Cr)、钨(W)和铝(Al)的至少之一。

公共电极、像素电极和数据线的下层的每个可以具有小于约50纳米 (nm)的厚度,数据线的上层可以具有大于约1500的厚度。

薄膜晶体管显示面板还可以包括薄膜晶体管,每个薄膜晶体管包括连接 到栅极线的栅极电极、连接到数据线的源极电极以及连接到像素电极的漏极 电极,漏极电极的厚度可以小于源极电极的厚度。

源极电极可以以多层结构形成,漏极电极可以以单层结构形成。

漏极电极和连接电极的厚度可以小于源极电极的厚度。

公共电极和像素电极可以交替地布置。

薄膜晶体管显示面板还可以包括设置在像素电极和公共电极上的第一 保护膜。

薄膜晶体管显示面板还可以包括设置在数据线和第一保护膜上的第二 保护膜。

示范性实施例提供了一种制造薄膜晶体管显示面板的方法,该方法包 括:在绝缘基板上形成栅极线和平行于栅极线布置的公共线;在栅极线和公 共线上形成栅极绝缘膜;在设置在公共线上的栅极绝缘膜中形成接触孔;以 及形成通过接触孔电连接到公共线且彼此平行布置的多个公共电极、平行于 公共电极布置的多个像素电极以及与栅极线交叉的数据线。公共电极和像素 电极的厚度小于数据线的厚度。

公共电极和像素电极中的每个可以以单层结构形成,数据线可以以多层 结构形成。

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