[发明专利]十字吹扫阀和容器组件有效
申请号: | 200910166641.3 | 申请日: | 2009-08-24 |
公开(公告)号: | CN101654171A | 公开(公告)日: | 2010-02-24 |
发明(设计)人: | C·M·伯特彻;T·A·斯泰德尔;J·E·巴克 | 申请(专利权)人: | 气体产品与化学公司 |
主分类号: | B65D83/00 | 分类号: | B65D83/00;H01L21/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘 锴;韦欣华 |
地址: | 美国宾夕*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 十字 吹扫阀 容器 组件 | ||
相关申请的交叉引用
本专利申请要求2008年8月22日提交的美国临时专利申请 No.61/091,155的权益。
技术领域
本发明涉及一种用于存储和分配高纯度工艺化学制剂的容器和 阀-十字吹扫组件。
发明背景
半导体制造工业中在标准温度和压力,例如环境条件下的 存储和分配中使用一系列在固相、液相和气相中的化学制剂。基于它们 的化学结构,以及它们是否为其纯净的形式或者被包含在溶剂中,这些 化学制剂可以具有在很大程度上变化的蒸气压和粘度。
半导体制造工业典型地通过将化学制剂从不同尺寸和容量 的容器分配到反应室之中来使用所述化学制剂,其中所述化学制剂被用 于制造半导体装置例如集成电路、存储装置以及光电装置。
无论所述化学制剂容器的尺寸,在一些时间点所述半导体 制造者会替换化学制剂耗尽的化学制剂容器,或者移除化学制剂容器用 于其它的操作要求。
在半导体制造中化学制剂容器的移除或替换并不是不重要 的动作。这些化学制剂典型地要求在极高纯度下并且通常不能曝露在空 气或不受控制的外部条件中,这样的外部条件可能会在所述化学制剂容 器的移除或替换过程中影响所述化学制剂的纯度。
此外,这些化学制剂常常可能会不利地与空气中的水分和/ 或氧气发生反应。这样的反应可能会导致副产品杂质的污染,其可能堵 塞所述容器或输送管线并且引起锈蚀或污染或两者。
半导体制造工业一直在寻找满足上面所述需要的容器和输送设 备,同时其要在结构上紧凑简单并且在使用所述容器的反应器附近具 有小的印迹。如将在后面更充分描述的,本发明满足了这些长久以来 的需求。
发明内容
本发明是一种用于存储和分配高纯度工艺化学制剂的容器 和阀-十字吹扫组件(container and valve-crosspurge assembly), 包含;
(A)用于容纳高纯度工艺化学制剂的容器,其具有用于分配高 纯度工艺化学制剂和引入载气以辅助分配所述高纯度工艺化学制剂 的进口和出口;
(B)阀-十字吹扫配件,其包含;
(i)第一阀;和
(ii)第二阀,
上述阀中的一个连接到所述容器的进口,且上述阀中的另一个连 接到上述容器的出口;并且
(iii)在所述第一和第二阀之间的十字吹扫连接 (crosspurg econnection),其提供了在所述两阀之间与所述容器 相独立的流体流动连接;
其中,每个阀具有;
(a)到所述容器的第一孔;
(b)到用于所述组件外部的流体流动连接的导管的第二孔;以 及,
(c)到所述十字吹扫连接的第三孔,其在所述阀中与所述第二孔 在轴向间隔第一距离;
(d)阀罩;以及
(e)阀杆,其能够在所述阀罩中向以下两个位置之一移动:(1) 容器打开以及(2)十字吹扫打开-容器关闭;其中,所述阀杆具有三个 阀密封表面:
(I)第一阀密封表面,其被配置以相对第一阀座密封,来关闭到 所述容器的第一孔;
(II)其横截面相对于所述主阀杆横截面有所放大的第二阀密封 表面,其被配置以相对阀罩的内壁密封,从而使所述第二孔对第一孔 关闭;以及,
(III)其横截面相对于所述主阀杆横截面有所放大的第三阀密 封表面,其被配置以相对所述阀罩的内壁密封,从而与所述第二阀密 封表面在所述十字吹扫连接的第三孔和所述第二孔之间形成流道,其 中在所述阀杆上所述第二阀密封表面与所述第三阀密封表面的轴向 间距至少与所述第一距离(如在(c)中所述的)一样大,以便形成 所述流道(如在(III)中所述的)。
在一个替代实施方案中,所述阀杆仅仅具有两个密封表 面,排除了所述第一密封表面。
附图说明
图1A和1B是本发明实施方案的透视图,其说明了一种具有 阀-十字吹扫配件的高纯度化学制剂容器,所述阀-十字吹扫配件是沿直 线定位或″U″形定位的,其中阀的出口分别为彼此面向相反的方向或面 向相同的方向。
图2是图1所述容器和配件的剖视图。
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